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J-GLOBAL ID：200903092300738998
ガスクラスターイオンビームによる固体表面の 平坦化方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
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Agent (1)：
西澤 利夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995057587
Publication number (International publication number)：1996293483
Application date： Mar. 16, 1995
Publication date： Nov. 05, 1996
Summary：
【要約】【構成】 常温および常圧で気体状物質の塊状原子集団または分子集団であるガスクラスターを形成し、これに電子を浴びせて生成させたガスクラスターイオンを加速電圧によって加速して基板表面に照射し、固体表面を平坦化する。【効果】 表面損傷を生じることなく、半導体、その他電子デバイス等の固体表面の平坦化、さらにはその表面清浄化も可能となる。
Claim (excerpt)：
常温および常圧で気体状物質の塊状原子集団または分子集団であるガスクラスターイオンを固体表面に照射してその表面を平坦化することを特徴とするガスクラスターイオンビームによる固体表面の平坦化方法。
IPC (2)：
FI (3)：
H01L 21/302 N
, C23F 4/00 C
, H01L 21/302 F
Cited by examiner (10)
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