ポジ型感光性組成物

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小栗昌平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001307537
Publication number (International publication number)：2003114522
Application date： Oct. 03, 2001
Publication date： Apr. 18, 2003
Summary：

【要約】【課題】ラインのプロファイルが改善され、且つパターン倒れが抑制されたポジ型感光性組成物を提供する。【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の酸発生剤、(B)単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。

Claim (excerpt)：

(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する下記式(I)に示す酸発生剤、(B)単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。【化1】式(I)中、R1〜R5は、同じでも異なっていてもよく、水素原子、ニトロ基、ハロゲン原子又は置換基を有していてもよい、アルキル基、アルコキシ基、アルキルオキシカルボニル基、アリール基若しくはアシルアミノ基を表し、R1〜R5のうち少なくとも2つが結合して環構造を形成してもよい。R6及びR7は、同じでも異なっていてもよく、水素原子、シアノ基又は置換基を有していてもよい、アルキル基若しくはアリール基を表す。Y1及びY2は、同じでも異なっていてもよく、置換基、エーテル連結基若しくはスルフィド連結基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアルケニル基を表す。但し、Y1及びY2は、両方がアルキル基である場合に、Y1及びY2の少なくとも一方のアルキル基が水酸基、エーテル連結基若しくはスルフィド連結基を有しているか、或いはY1及びY2の両方のアルキル基が炭素数2以上である。R1〜R5の少なくとも1つとY1又はY2の少なくとも一つが結合して環を形成してもよい。R1〜R5の少なくとも1つとR6又はR7の少なくとも1つが結合して環を形成してもよい。また、R1〜R7のいずれか又はY1若しくはY2のいずれかの位置で、連結基を介して結合し、式(I)の構造を2つ以上有していてもよい。X-は、非求核性アニオンを表す。

IPC (8)：

G03F 7/004 503 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 504 , C08F 20/18 , C08F 20/28 , C08F 32/00 , G03F 7/039 601 , H01L 21/027

FI (8)：

G03F 7/004 503 A , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 504 , C08F 20/18 , C08F 20/28 , C08F 32/00 , G03F 7/039 601 , H01L 21/30 502 R

F-Term (95)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AB16 , 2H025AB17 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CC04 , 2H025CC20 , 2H025FA03 , 2H025FA12 , 2H025FA17 , 4J100AK32Q , 4J100AK32R , 4J100AK32S , 4J100AL03R , 4J100AL03S , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100AL08S , 4J100AL08T , 4J100AM17R , 4J100AM43Q , 4J100AM45Q , 4J100AM47Q , 4J100AM47R , 4J100AR09P , 4J100AR09Q , 4J100AR09R , 4J100AR11P , 4J100AR11Q , 4J100BA02P , 4J100BA02R , 4J100BA02S , 4J100BA02T , 4J100BA03P , 4J100BA03Q , 4J100BA03R , 4J100BA03S , 4J100BA10R , 4J100BA11P , 4J100BA11Q , 4J100BA11R , 4J100BA11S , 4J100BA12P , 4J100BA14Q , 4J100BA15P , 4J100BA15Q , 4J100BA15S , 4J100BA16P , 4J100BA20P , 4J100BA20Q , 4J100BA29P , 4J100BA34P , 4J100BA35P , 4J100BA40P , 4J100BA55Q , 4J100BA55S , 4J100BA56P , 4J100BA58P , 4J100BA59S , 4J100BB01P , 4J100BB18Q , 4J100BC02P , 4J100BC04P , 4J100BC04Q , 4J100BC04R , 4J100BC04S , 4J100BC04T , 4J100BC07P , 4J100BC08Q , 4J100BC08S , 4J100BC09P , 4J100BC09R , 4J100BC09S , 4J100BC12P , 4J100BC23S , 4J100BC53P , 4J100BC53Q , 4J100BC53R , 4J100BC53S , 4J100CA03 , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100CA06 , 4J100DA01 , 4J100FA19 , 4J100JA37 , 4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

新規オニウム塩およびそれを含有する感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-177743 Applicant：日本合成ゴム株式会社

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