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J-GLOBAL ID：200903031418663721

新規オニウム塩およびそれを含有する感放射線性樹脂 組成物

Inventor： 鈴木 正睦 ,  小林 泰隆 ,  辻 昭
Applicant, Patent owner： 日本合成ゴム株式会社
Agent (1)： 福沢 俊明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994177743
Publication number (International publication number)：1996027094
Application date： Jul. 07, 1994
Publication date： Jan. 30, 1996
Summary：

【要約】【目的】 レジスト溶液の溶媒に対する溶解性および各種の樹脂との相溶性に優れた新規オニウム塩、並びに該オニウム塩を含有し、塗布性、露光後焼成の条件に対するパターン形状の安定性等に優れた化学増幅型レジストとして有用なポジ型またはネガ型の感放射線性樹脂組成物を提供する。【構成】 オニウム塩は、炭素数6以上のパーフルオロアルキル基をアニオン中に含有するヨードニウム塩またはスルホニウム塩からなる。ポジ型感放射線性樹脂組成物は、(1-1) 前記オニウム塩並びに酸解離性基含有樹脂を含有するか、(1-2) 前記オニウム塩、アルカリ可溶性樹脂並びに溶解制御剤を含有し、またネガ型感放射線性樹脂組成物は、(2)前記オニウム塩、アルカリ可溶性樹脂並びに架橋剤を含有する。

Claim (excerpt)：

下記式(1)または(2)で表されるオニウム塩。【化1】〔式(1)において、Xは芳香族有機基、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基およびフェナシル基の群から選ばれる1価の基を示し、複数存在するXは相互に同一でも異なってもよく、Yは2価の有機基を示し、複数存在するYは相互に同一でも異なってもよく、Zは式(1)中のよう素原子とともに脂肪族もしくは芳香族の複素環式構造を形成する2価の有機基を示し、aは0〜2の整数であり、bは0〜2の整数であり、cは0または1であるが、a+b+2c=2を満足し、Aは -CH2-、-CHF- または -CF2-基を示し、Bは -O-、-Ar-、-Ar-O-、-O-Ar-または-O-Ar-O-基を示し、Arはフェニレン基、ナフチレン基またはアントリレン基を示し、eは5〜40の整数であり、gは0または1である。〕【化2】〔式(2)において、Xは芳香族有機基、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基およびフェナシル基の群から選ばれる1価の基を示し、複数存在するXは相互に同一でも異なってもよく、Yは2価の有機基を示し、複数存在するYは相互に同一でも異なってもよく、Zは式(2)中の硫黄原子とともに脂肪族もしくは芳香族の複素環式構造を形成する2価の有機基を示し、aは0〜3の整数であり、bは0〜3の整数であり、cは0または1であるが、a+b+2c=3を満足し、Aは -CH2-、-CHF- または -CF2-基を示し、Bは -O-、-Ar-、-Ar-O-、-O-Ar-または-O-Ar-O-基を示し、Arはフェニレン基、ナフチレン基またはアントリレン基を示し、gは0または1であり、fは5〜40の整数であるが、Aが-CF2-基でgが0であるとき、fは7〜40の整数である。〕

IPC (9)：

C07C305/04 ,  C07C305/22 ,  C07C309/03 ,  C07C309/28 ,  C07C381/12 ,  C08K 5/37 KBS ,  C08K 5/42 KBU ,  C08L101/00 ,  G03F 7/004 503

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• ポジ型感光性組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-286045   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• ネガ型感光性組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-344085   Applicant：富士写真フイルム株式会社