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J-GLOBAL ID:200903074454031279

レーザ処置方法及びシステム

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 後藤 洋介 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994094972
Publication number (International publication number):1994327710
Application date: May. 09, 1994
Publication date: Nov. 29, 1994
Summary:
【要約】【目的】 目の屈折誤差修正を精度よく行う。【構成】 オフセットイメージ走査によって角膜表面の切除光分解を行う。可変幅スリット及び可変径アイリスダイアフラムのような可変アパチャーのイメージが予め選定されたパターンで走査され、角膜表面の所定の位置の切除彫刻を行う。この走査は、アパチャーから退去するプロフィールビームの径方向変位及び角度的回転を行うことができる可動イメージオフセット変位機構で行われる。プロフィールビームはオフセット変位機構に関してアパチャーを回転することによって回転される。この発明は、より狭いビームを有するレーザで広いエリアの処理ができ、多くの異なる状態(例えば、遠視,遠視的乱視,不規則屈折異常,切除後を滑かにすること、及び光線療法角膜切除術)の処置に用いられる。
Claim (excerpt):
望ましい角膜形状を形成するため目の角膜表面の選択的切除を行う方法において、(a)可変アパチャー(穴)に向ってレーザビームを向けるステップと、(b)可変アパチャーでビームをプロフィールして可変エリアプロフィールビームを生成するステップと、(c)所定の手法でプロフィールを変化させる間、角膜表面の予め定められたエリア上にプロフィールビームを走査するステップとを有することを特徴とするレーザ処置方法。
IPC (2):
A61F 9/00 508 ,  A61B 17/36 350
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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