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J-GLOBAL ID:200903074564587370

MRAM書き込み装置および方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 桑垣 衛
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2002555419
Publication number (International publication number):2004526270
Application date: Dec. 26, 2001
Publication date: Aug. 26, 2004
Summary:
MRAMセル(10)、およびセルをプログラミングする方法を開示した。セルは共振周波数での強磁性共振を有し、その強磁性共振のQが1以上である磁気材料からなる自由層(2)を含む。困難軸と容易軸との書き込み線は自由層と磁気接続する位置にある。クラッド層(62)は困難軸書き込み線を部分的に囲み、同一の共振周波数を有し、1以上の強磁性共振Qを有する。共振周波数を含む書き込み信号が困難軸書き込み線(20)に印加され、同時に、容易軸書き込み線(21)にも印加される。セルとクラッド層とのQが掛け合わされて、スイッチング磁場が増大し、即ち、同じ磁場を形成するのに必要な電流が削減される。
Claim (excerpt):
対応共振周波数での強磁性共振を有する磁気材料からなる自由層を含むMRAMセルと、 該磁気材料からなる自由層と磁気接続する位置にある困難軸書き込み線と、 該磁気材料からなる自由層と磁気接続する位置にある容易軸書き込み線と、 対応共振周波数を含む書き込み信号を受信するために接続された、該困難軸書き込み線と容易軸書き込み線とのうちの1つと、 からなるMRAM書き込み装置。
IPC (3):
G11C11/15 ,  H01L27/105 ,  H01L43/08
FI (3):
G11C11/15 140 ,  H01L43/08 Z ,  H01L27/10 447
F-Term (4):
5F083FZ10 ,  5F083JA60 ,  5F083KA01 ,  5F083KA05
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)

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