Pat
J-GLOBAL ID:200903074581482956

光ディスク用原盤およびスタンパならびにそれらの製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 深見 久郎 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996250354
Publication number (International publication number):1998097739
Application date: Sep. 20, 1996
Publication date: Apr. 14, 1998
Summary:
【要約】【課題】 グルーブまたはランドの表面粗さを小さくしかつそのテーパ角を大きくすることにより、信号の検出精度が高くかつ記録密度の高い光磁気ディスクを製造可能にする。【解決手段】 シリコン基板10上に熱酸化法によりシリコン酸化膜11を形成し、そのシリコン酸化膜11をフォトリソグラフィ法により光磁気ディスクのトラックに対応する同心円状またはスパイラル状にパターニングし、これにより光磁気ディスク用の原盤を製造する。
Claim (excerpt):
光ディスク用の原盤であって、シリコン基板と、前記シリコン基板上に形成され、前記光ディスクのトラックに対応する所定形状にパターニングされたシリコン酸化膜とを含む、光ディスク用原盤。
IPC (3):
G11B 7/26 501 ,  G11B 7/26 511 ,  G03F 7/40 521
FI (3):
G11B 7/26 501 ,  G11B 7/26 511 ,  G03F 7/40 521
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
Show all

Return to Previous Page