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J-GLOBAL ID：200903074682939230

保湿性を有するマスク用布およびそれを用いた衛生マスク

Inventor： 佐波 映
Applicant, Patent owner： 日東電工株式会社
Agent (2)： 鎌田 耕一 ,  黒田 茂
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006111086
Publication number (International publication number)：2007282720
Application date： Apr. 13, 2006
Publication date： Nov. 01, 2007
Summary：

【課題】ポリテトラフルオロエチレン多孔質膜を用いたマスク用布において、水分保持能の高いマスク用布を提供する。【解決手段】積層構造を有するマスク用布であって、ポリテトラフルオロエチレン多孔質膜、および保湿性を有する織布または不織布を有することを特徴とするマスク用布。保湿性を有する織布または不織布としては、天然繊維より形成される織布または不織布が好ましい。当該マスク用布は、好ましくは支持層をさらに有する。また、当該マスク用布は、フラジール数で表される通気度が150cm/秒以上であることが好ましい。【選択図】図3

Claim (excerpt)：

積層構造を有するマスク用布であって、ポリテトラフルオロエチレン多孔質膜、および保湿性を有する織布または不織布を有することを特徴とするマスク用布。

IPC (4)：

A62B 18/02 ,  B32B 27/12 ,  B32B 5/24 ,  B32B 27/30

FI (4)：

A62B18/02 C ,  B32B27/12 ,  B32B5/24 101 ,  B32B27/30 D

F-Term (18)：

2E185AA07 ,  2E185BA09 ,  2E185CA03 ,  2E185CB07 ,  2E185CB15 ,  2E185CC73 ,  4F100AJ04B ,  4F100AK18A ,  4F100AT00C ,  4F100BA02 ,  4F100BA03 ,  4F100BA10C ,  4F100DG11B ,  4F100DG15C ,  4F100DJ10A ,  4F100GB66 ,  4F100JB16C ,  4F100JD02

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 実開昭57-134047号公報
  
• 実公平3-30129号公報
  
• マスク用布
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-077595   Applicant：日東電工株式会社