投影システム

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：佐野静夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000184360
Publication number (International publication number)：2002006257
Application date： Jun. 20, 2000
Publication date： Jan. 09, 2002
Summary：

【要約】【課題】投影光学系の小型化,広角化が達成可能で、しかも高いコントラストの投影画像が得られる高性能の投影システムを提供する。【解決手段】光源5からの光を照明光学系ILでTIRプリズムPRに導き、TIRプリズムPRで全反射した光をDMD2で光変調し、投影光学系PLで被投影面上に投影する構成であり、以下の条件式を満足する。100≦Xa≦250但し、Xa(mm):DMD2から照明光学系ILのDMD2側の瞳までの距離である。

Claim (excerpt)：

光源からの光を照明光学系でTIRプリズムに導き、そのTIRプリズムで全反射した光をDMDで反射させる事により光変調を行い、その光変調後に前記TIRプリズムを透過した光を投影光学系で被投影面上に投影する投影システムであって、前記照明光学系が前記光源からの光を平滑化する機能を備え、前記TIRプリズムが、前記照明光学系から射出した光を全反射させる第1プリズムと、前記DMDでの光変調後に前記第1プリズムを透過した光を透過させる第2プリズムと、から成り、以下の条件式を満足する事を特徴とする投影システム;100≦Xa≦250但し、Xa(mm):DMDから照明光学系のDMD側の瞳までの距離である。

IPC (5)：

G02B 27/18 , G02B 13/16 , G02B 13/18 , G02B 19/00 , H04N 9/31

FI (5)：

G02B 27/18 Z , G02B 13/16 , G02B 13/18 , G02B 19/00 , H04N 9/31 Z

F-Term (52)：

2H052BA02 , 2H052BA03 , 2H052BA09 , 2H052BA14 , 2H087KA07 , 2H087LA01 , 2H087LA24 , 2H087PA03 , 2H087PA08 , 2H087PA18 , 2H087PB04 , 2H087PB09 , 2H087QA01 , 2H087QA02 , 2H087QA05 , 2H087QA07 , 2H087QA13 , 2H087QA17 , 2H087QA22 , 2H087QA25 , 2H087QA26 , 2H087QA31 , 2H087QA34 , 2H087QA41 , 2H087QA46 , 2H087RA05 , 2H087RA12 , 2H087RA32 , 2H087RA36 , 2H087SA22 , 2H087SA25 , 2H087SA28 , 2H087SA31 , 2H087SA62 , 2H087SA63 , 2H087SA64 , 2H087SA75 , 2H087SB05 , 2H087SB14 , 2H087SB24 , 2H087SB34 , 5C060BA08 , 5C060BA09 , 5C060BC05 , 5C060GB06 , 5C060HC00 , 5C060HC12 , 5C060HC17 , 5C060HD05 , 5C060JA00 , 5C060JA17 , 5C060JB06

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

投影システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-211527 Applicant：ミノルタ株式会社
表示光学系
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-047376 Applicant：ミノルタ株式会社
映写システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-150322 Applicant：テキサスインスツルメンツインコーポレイテツド

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