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J-GLOBAL ID：200903074810962231
高分子光導波路の製造方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
中本 宏 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995145200
Publication number (International publication number)：1996313747
Application date： May. 22, 1995
Publication date： Nov. 29, 1996
Summary：
【要約】【目的】 充分な可とう性を持たせた低損失で高信頼な高分子フレキシブル光導波路フィルムを、安価で簡便に、しかも大量生産に適した製造方法で作製する方法を提供する。【構成】 平坦な表面の一部に連続した凸部を有する金型上にクラッドの材料を表面が平坦になるように配置して下部クラッドとする工程、該下部クラッドの上に平坦な基板を配置する工程、該平坦な基板が下になるよう上下を反転させる工程、該金型を除去する工程、該下部クラッドの、該金型の凸部跡にできた溝にコアの材料を配置する工程、該コアの材料の、該溝からはみ出した部分を除去する工程、該コアを覆うように該下部クラッドの上にクラッドの材料を配置する工程、及び該平坦な基板を除去する工程よりなる高分子光導波路の製造方法。
Claim (excerpt)：
高分子材料よりなるコア及び該コアを取り囲み該コアよりも屈折率の低い材料よりなるクラッドを少なくとも含む高分子光導波路の製造方法において、平坦な表面の一部に連続した凸部を有する金型上に該クラッドの材料を表面が平坦になるように配置して下部クラッドとする工程、該下部クラッドの上に平坦な基板を配置する工程、該平坦な基板が下になるよう上下を反転させる工程、該金型を除去する工程、該下部クラッドの、該金型の凸部跡にできた溝に該コアの材料を配置する工程、該コアの材料の、該溝からはみ出した部分を除去する工程、該コアを覆うように該下部クラッドの上に該クラッドの材料を配置する工程、及び該平坦な基板を除去する工程よりなることを特徴とする高分子光導波路の製造方法。
Patent cited by the Patent：
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