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J-GLOBAL ID:200903075084438400
ストレス緩和用の香料組成物及びそれを含有する組成物
Inventor:
,
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999221887
Publication number (International publication number):2001049286
Application date: Aug. 05, 1999
Publication date: Feb. 20, 2001
Summary:
【要約】【課題】 本発明は、誰もが簡単にできるストレスの緩和手段、取り分け睡眠不足のストレス緩和手段を提供することを課題とする。【解決手段】 ネロリドール、ヘディオン、マイヨール、リリアール、ヘリオナール、フェニルエチルアルコール及びαーヘキシルシンナミックアルデヒドから選ばれる1種乃至は2種以上を含むことを特徴とする、ストレス緩和用の香料組成物を化粧料などの香粧品に含有させる。
Claim (excerpt):
ネロリドール、ヘディオン、マイヨール、リリアール、ヘリオナール、フェニルエチルアルコール及びαーヘキシルシンナミックアルデヒドから選ばれる1種乃至は2種以上を含むことを特徴とする、ストレス緩和用の香料組成物。
IPC (4):
C11B 9/00
, A61K 7/46
, A61K 7/46 315
, A61K 7/46 345
FI (9):
C11B 9/00 C
, C11B 9/00 D
, C11B 9/00 K
, C11B 9/00 T
, C11B 9/00 X
, A61K 7/46 A
, A61K 7/46 315 A
, A61K 7/46 315 Z
, A61K 7/46 345 Z
F-Term (15):
4H059BA12
, 4H059BA14
, 4H059BA20
, 4H059BA35
, 4H059BB05
, 4H059BB06
, 4H059BB13
, 4H059BB14
, 4H059BB15
, 4H059BB18
, 4H059BB23
, 4H059BB44
, 4H059BB45
, 4H059DA09
, 4H059EA33
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
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ストレス緩和香料及びそれを含有する組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-137523
Applicant:ポーラ化成工業株式会社
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鎮静効果を与える香料改質剤
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-279291
Applicant:高砂香料工業株式会社, 株式会社資生堂
-
意識水準制御剤
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-358144
Applicant:株式会社ツムラ
-
特開平3-167130
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特公平5-023245
-
スプレー型糊剤組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-012314
Applicant:ライオン株式会社
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水性ネイルエナメル用香料組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-218040
Applicant:花王株式会社
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香料可溶化組成物及びこれを配合した外用組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-288777
Applicant:株式会社資生堂
-
コラーゲンゲル収縮促進剤
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-141598
Applicant:花王株式会社
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Article cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
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香料化学, 1956, 第188,189,207,208頁
-
合成香料 化学と商品知識, 19960306, 第71,72,275,276,292,
-
香料の化学, 19830916, 第135,152,153頁
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