Pat

J-GLOBAL ID：200903075199792160

光導波路

Inventor： 江利山 祐一 ,  玉木 研太郎 ,  高瀬 英明 ,  宇高 友広
Applicant, Patent owner： ジェイエスアール株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001394993
Publication number (International publication number)：2003195075
Application date： Dec. 26, 2001
Publication date： Jul. 09, 2003
Summary：

【要約】【課題】 、下部クラッド層、コア部分、上部クラッド層から構成され、それらのいずれか1層がシリカ系化合物から形成されるパターン化された光導波路であって偏波依存性に優れた光導波路に関する。【解決手段】 下部クラッド層、コア部分、上部クラッド層から構成され、それらのいずれか1層がシリカ系化合物から形成されるパターン化された光導波路であって、コア部分の光の進行方向の表面粗さ(Ra)が0.4μm以下であることを特徴とする光導波路。

Claim (excerpt)：

下部クラッド層、コア部分、上部クラッド層から構成され、それらのいずれか1層がシリカ系化合物から形成されるパターン化された光導波路であって、コア部分の光の進行方向の表面粗さ(Ra)が0.4μm以下であることを特徴とする光導波路。

F-Term (6)：

2H047KA03 ,  2H047PA02 ,  2H047PA22 ,  2H047PA28 ,  2H047QA05 ,  2H047TA21

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• シロキサン系ポリマを用いた光導波路の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-042520   Applicant：京セラ株式会社