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J-GLOBAL ID：200903075213209774

マイクロ波プラズマ処理装置

Inventor： 秋元 健司
Applicant, Patent owner： 日本電気株式会社
Agent (1)： 京本 直樹 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993312418
Publication number (International publication number)：1995169740
Application date： Dec. 14, 1993
Publication date： Jul. 04, 1995
Summary：

【要約】【目的】マイクロ波を用いるプラズマ処理装置に於いて、チャンバ1内でのプラズマ均一性を任意に制御すること。【構成】マイクロ波プラズマ処理装置における上部電極2Aのは、複数のマイクロ波放射口13のそれぞれ独立に変えるシャッター14および操作部15を備え、このシャッター14でこれらのマイクロ波放射口13からチャンバ1に導入されるマイクロ波の強度分布を制御する。

Claim (excerpt)：

処理室内の被処理基板を載置する第1の平板状電極に対し平行に配設されるとともにマイクロ波を導出する複数のマイクロ波放射口を有する第2の平板状電極を備えるマイクロ波プラズマ処理装置において、複数の前記マイクロ波放射口のそれぞれの開口面積を独立に変える開口度可変機構を備えることを特徴とするマイクロ波プラズマ処理装置。

IPC (2)：

H01L 21/3065 ,  H01L 21/205

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平2-209484
  
• 特開平4-217318
  
• プラズマ処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-289746   Applicant：株式会社日立製作所