低損失光導波路及びその製造方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：絹谷信雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999171122
Publication number (International publication number)：2001004852
Application date： Jun. 17, 1999
Publication date： Jan. 12, 2001
Summary：

【要約】【課題】小型で散乱損失や放射損失の小さい低損失光導波路及びその製造方法を提供する。【解決手段】基板1上の低屈折率のクラッド層4、6a、6b、7内に略矩形断面形状の高屈折率のコア層5a、5bが埋め込まれた光導波路において、コア層5a、5bが幅方向に少なくとも2段型の屈折率分布を有するので、コア層5a、5b中を伝搬する光の大部分が屈折率の高い部分に閉じ込められて伝搬する。コア層5a、5b及びクラッド層6a、6bがフォトブリーチング材料からなるため、界面が均一である。その結果、小型で散乱損失や放射損失の小さい光導波路が得られる。

Claim (excerpt)：

基板上の低屈折率のクラッド層内に略矩形断面形状の高屈折率のコア層が埋め込まれた光導波路において、該コア層が幅方向に少なくとも2段型の屈折率分布を有することを特徴とする低損失光導波路。

IPC (3)：

G02B 6/122 , G02B 6/12 , G02B 6/13

FI (3)：

G02B 6/12 A , G02B 6/12 N , G02B 6/12 M

F-Term (5)：

2H047KA04 , 2H047KA12 , 2H047PA17 , 2H047TA01 , 2H047TA36

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

屈折率分布型光導波路の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-055547 Applicant：富士通株式会社
ポリマ導波路及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-034601 Applicant：日立電線株式会社
光第2高周波発生素子
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-156414 Applicant：沖電気工業株式会社

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