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J-GLOBAL ID:200903075350697158
ハイブリッド電極を用いた多結晶強誘電体コンデンサーヘテロ構造
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
谷 義一 (外1名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):1996516946
Publication number (International publication number):1997512963
Application date: Nov. 03, 1995
Publication date: Dec. 22, 1997
Summary:
【要約】優れた信頼性と疲労や痕跡に対する耐性を有する強誘電体コンデンサーのヘテロ構造は、多結晶性金属酸化物を有する高導電性の白金のハイブリッド電極および結晶配向テンプレートの挿入が必須でないSi-CMOS-適合可能な基板上に堆積した強誘電体材料を具備する。
Claim (excerpt):
下塗りされたシリコン化合物表面を有するシリコン基板と、前記表面上に成長した少なくとも1つの結晶性強誘電体材料層とを具備する強誘電体コンデンサーヘテロ構造であって、前記表面上に成長した金属層が前記ヘテロ構造に導電性を与え、かつ該金属層上に成長した金属酸化物層が前記強誘電体層のためのハイブリッドコンデンサー電極基板を形成していることを特徴とする強誘電体コンデンサーヘテロ構造。
IPC (8):
H01L 27/10 451
, H01L 21/822
, H01L 21/8242
, H01L 21/8247
, H01L 27/04
, H01L 27/108
, H01L 29/788
, H01L 29/792
FI (4):
H01L 27/10 451
, H01L 27/10 651
, H01L 29/78 371
, H01L 27/04 C
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
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誘電体薄膜の製造方法および装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-215816
Applicant:松下電器産業株式会社
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