Pat

J-GLOBAL ID：200903075463966090

水素同位体の分離・濃縮方法

Inventor： 朝倉 大和 ,  田中 将裕 ,  古藤 健司 ,  杉山 貴彦
Applicant, Patent owner： 大学共同利用機関法人自然科学研究機構
Agent (5)： 杉村 憲司 ,  杉村 興作 ,  来間 清志 ,  藤谷 史朗 ,  澤田 達也
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007142206
Publication number (International publication number)：2008296089
Application date： May. 29, 2007
Publication date： Dec. 11, 2008
Summary：

【課題】設備費や運転費が低く抑えられることで少量の処理に適し、また、簡素なシステムで水素同位体を高濃縮状態に回収できる安全管理の容易な水素同位体の分離・濃縮方法を提供する。【解決手段】吸着剤2を有し、液体窒素温度域に保持された状態で吸着剤2に水素ガスを平衡状態となるまで吸着させた単一のカラム1を用い、カラム1に水素同位体を含む一定流量の水素ガスを継続的に導入・通過させて、水素ガス中に含まれる水素同位体のみを低温常圧吸着させ、次いで、吸着剤2の吸着能力が低下したと判断した時点で、水素同位体を含む水素ガスの導入を一旦停止して、カラム1を液体窒素温度域に保持したまま減圧させることで、カラム1内の水素同位体を低温減圧脱着させ、更に、カラム1を減圧した状態のままで室温以下の温度まで上昇させることで、カラム1内の水素同位体を更に昇温減圧脱着させた後、カラム1を液体窒素温度域まで冷却すると共に、カラム1に水素ガスを大気圧の状態で導入する。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

水素同位体及び水素ガスを吸着させる吸着剤を有し、液体窒素温度域に保持された状態で当該吸着剤に水素ガスを平衡状態となるまで吸着させた単一の分離槽を用い、 この分離槽に水素同位体を含む一定流量の水素ガスを継続的に導入・通過させて、水素ガス中に含まれる水素同位体のみを低温常圧吸着させ、 次いで、前記吸着剤の吸着能力が低下したと判断した時点で、水素同位体を含む水素ガスの導入を一旦停止して、前記分離槽を液体窒素温度域に保持したまま減圧させることで、当該分離槽内の水素同位体を低温減圧脱着させ、 更に、前記分離槽を減圧した状態のままで室温以下の温度まで上昇させることで、当該分離槽内の水素同位体を更に昇温減圧脱着させたことを特徴とする水素同位体の分離・濃縮方法。

IPC (1)：

B01D 59/26

FI (1)：

B01D59/26

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 実装機の制御データ構造
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-196950   Applicant：松下電器産業株式会社
• 重水素分離濃縮方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-326695   Applicant：三菱重工業株式会社

Cited by examiner (1)

• 重水素分離濃縮方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-326695   Applicant：三菱重工業株式会社