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J-GLOBAL ID:200903075464694574
酸・塩基混合物
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003195429
Publication number (International publication number):2005029497
Application date: Jul. 11, 2003
Publication date: Feb. 03, 2005
Summary:
【課題】比較的低い融点を有する酸・塩基混合物からなる新規なイオン伝導体、または、プロトン伝導体を提供する。【解決手段】塩基成分および酸成分、あるいは、どちらか一成分が、少なくとも2種類の化合物からなる混合物であって、塩基成分のうちの少なくとも1種類が特定の構造を有するイミダゾールであることを特徴とする酸・塩基混合物。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
塩基成分および酸成分、あるいは、どちらか一成分が、少なくとも2種類の化合物からなる混合物であって、塩基成分のうちの少なくとも1種類が、
化学式(1)
IPC (6):
C07D233/58
, H01B1/12
, H01G9/035
, H01G9/038
, H01M8/02
, H01M10/40
FI (6):
C07D233/58
, H01B1/12 Z
, H01M8/02 M
, H01M10/40 A
, H01G9/00 301D
, H01G9/02 311
F-Term (6):
5H026AA04
, 5H026AA06
, 5H026EE17
, 5H029AJ06
, 5H029AM09
, 5H029HJ02
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
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金属用研磨液及び研磨方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-383539
Applicant:日立化成工業株式会社
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特開平1-279871
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酸・塩基混合物からなるイオン伝導体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-195428
Applicant:宇部興産株式会社
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