Pat
J-GLOBAL ID：200903075557876702

投影露光装置、投影露光方法、振幅収差評価用マスクパターン、振幅収差量評価方法および振幅収差除去フィルタ

Inventor：
加門 和也

About 加門 和也


Applicant, Patent owner：
三菱電機株式会社

About 三菱電機株式会社


Agent (1)： 深見 久郎 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997144090
Publication number (International publication number)：1998335224
Application date： Jun. 02, 1997
Publication date： Dec. 18, 1998
Summary：
【要約】【課題】 投影光学系における透過率分布を補償でき、かつ立体障害や結像特性の劣化のない投影露光装置を提供する。【解決手段】 ランプハウス11からの照明光によりフォトマスク20が照明され、フォトマスク20からの回折光を投影光学系6によって被露光基板21上に結像させて回路パターンを投影する投影露光装置であって、投影光学系6は、第1および第2のハーフミラー1、3と第1および第2の凹面鏡2、4とを有している。第1および第2のハーフミラー1、3は、第1のハーフミラー1から第2のハーフミラー3に向かう回折光の光軸の軸線に対して対称もしくは相似対称となるように配置されている。
Claim (excerpt)：
光源からの照明光によりフォトマスクを照明し、照明された前記フォトマスクからの回折光を投影光学系によって被露光基板上に結像させて回路パターンを投影する投影露光装置であって、前記投影光学系は、第1のハーフミラーと、前記第1のハーフミラーの反射光もしくは透過光を反射するための第1の凹面鏡と、前記第1のハーフミラーと別個独立に設けられた第2のハーフミラーと、前記第2のハーフミラーの反射光もしくは透過光を反射するための第2の凹面鏡とを有している、投影露光装置。
IPC (2)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521
FI (3)：
H01L 21/30 515 D ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 516 A
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM