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J-GLOBAL ID：200903075625565044

ビーム補償用光学系

Inventor：
能丸 圭司

About 能丸 圭司

, 
横山 稔

About 横山 稔


Applicant, Patent owner：
川崎重工業株式会社

About 川崎重工業株式会社


Agent (1)： 関 正治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998238225
Publication number (International publication number)：2000066104
Application date： Aug. 25, 1998
Publication date： Mar. 03, 2000
Summary：
【要約】【課題】 ビームの波長が変化しても光学系の再調整をする必要がなく、また出力光束の断面形状を所望の形状に調整することができる、歪みの少ない平行光束を得る無収差ビーム補償光学系を提供する。【解決手段】 回転楕円面ミラー1の第1焦点3にビーム源6を配置し、回転放物面ミラー2をその焦点と第2焦点4が一致するようにして対向配置して、ビーム源6から放射され回転楕円面ミラー1で反射して第2焦点4を通過したビームを回転放物面ミラー2で反射させるようにしたことを特徴とする。回転楕円面ミラー1と回転放物面ミラー2はそれぞれ回転機構11、12や並進機構13を備えて出力ビームの形状を調整することができる。
Claim (excerpt)：
回転楕円面ミラーと回転放物面ミラーを備え、該回転楕円面ミラーの第1焦点にビーム源を配置し、該回転楕円面ミラーの第2焦点と前記回転放物面ミラーの焦点を一致させて両ミラーが該焦点を挟んで対向するように配置して、前記ビーム源から放射され前記回転楕円面ミラーで反射して前記第2焦点を通過したビームを前記回転放物面ミラーで反射させるようにしたことを特徴とするビーム補償用光学系。
F-Term (9)：
2H087KA26 ,  2H087LA25 ,  2H087LA26 ,  2H087NA04 ,  2H087RA43 ,  2H087RA45 ,  2H087TA04 ,  2H087TA06 ,  2H087TA08
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (10)
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