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J-GLOBAL ID：200903075678552688

フェノール化合物の製造方法

Inventor：
吉田 和弘

About 吉田 和弘

, 
今本 恒雄

About 今本 恒雄


Applicant, Patent owner：
国立大学法人 千葉大学

About 国立大学法人 千葉大学


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005056609
Publication number (International publication number)：2006241025
Application date： Mar. 01, 2005
Publication date： Sep. 14, 2006
Summary：
【課題】様々な置換様式をもつフェノール化合物の効率的、且つ、簡便な製造方法を提供する。【解決手段】(1)式で表わされる1、4、7-トリエン-2-オン化合物を、ルテニウムもしくはモリブデン触媒の存在下で反応させることにより置換基を有していてもよいフェノール化合物を製造する。[式中R1〜R7は水素または特定の炭化水素基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、シリル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、水酸基、又はハロゲン原子であり、R3とR4、R4とR5およびR5とR6は互いに架橋して環を形成していてもよい]【選択図】なし
Claim (excerpt)：
下記一般式(1)で表される1、4、7-トリエン-2-オンを、ルテニウムもしくはモリブデン触媒の存在下で反応させることにより下記一般式(2)で表されるフェノール化合物を製造する方法。
IPC (5)：
C07C 37/50 ,  C07C 39/06 ,  C07C 39/15 ,  C07C 39/28 ,  C07F 7/08
FI (5)：
C07C37/50 ,  C07C39/06 ,  C07C39/15 ,  C07C39/28 ,  C07F7/08 F
F-Term (27)：
4H006AA02 ,  4H006AC28 ,  4H006AC42 ,  4H006AC84 ,  4H006BA14 ,  4H006BA23 ,  4H006BA37 ,  4H006BA47 ,  4H006BA48 ,  4H006FC52 ,  4H006FE13 ,  4H006FE73 ,  4H006FE75 ,  4H039CA41 ,  4H039CA60 ,  4H039CH20 ,  4H049VN01 ,  4H049VP01 ,  4H049VQ17 ,  4H049VR24 ,  4H049VS24 ,  4H049VT17 ,  4H049VT30 ,  4H049VU06 ,  4H049VU36 ,  4H049VW02 ,  4H049VW35
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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Cited by examiner (4)
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