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J-GLOBAL ID:200903075893033241

ソイルセメント地中連続壁の構築方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 磯野 道造
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999117859
Publication number (International publication number):2000309919
Application date: Apr. 26, 1999
Publication date: Nov. 07, 2000
Summary:
【要約】【課題】 セメントを含む注入材を現位置土に注入して混合攪拌し、その後芯材を建込んでソイルセメント地中連続壁を構築する方法において、工程の連続化及び工程変更の柔軟化を図ることができ、特にTRD工法においては退避掘削を不要としたソイルセメント地中連続壁の構築方法を提供する。【解決手段】 セメントを含む注入材を現位置土に注入して混合攪拌し、その後芯材を建込んでソイルセメント地中連続壁を構築する方法において、対象地盤の土量1(m3)に対して注入する前記注入材を以下の配合としたことを特徴とするソイルセメント地中連続壁の構築方法。(1)ベントナイト: 0〜100(kg)(2)セメント :50〜400(kg)(3)超遅延剤 : 1〜 30(kg)(4)水溶性高分子: 0〜 5(kg)
Claim (excerpt):
セメントを含む注入材を現位置土に注入して混合攪拌し、その後芯材を建込んでソイルセメント地中連続壁を構築する方法において、対象地盤の土量1(m3)に対して注入する前記注入材を以下の配合としたことを特徴とするソイルセメント地中連続壁の構築方法。(1)ベントナイト: 0〜100(kg)(2)セメント :50〜400(kg)(3)超遅延剤 : 1〜 30(kg)(4)水溶性高分子: 0〜 5(kg)
IPC (8):
E02D 5/20 101 ,  C04B 28/04 ,  C04B 14:10 ,  C04B 24:06 ,  C04B 24:38 ,  C04B103:22 ,  C04B103:44 ,  C04B111:00
FI (2):
E02D 5/20 101 ,  C04B 28/04
F-Term (12):
2D049EA02 ,  2D049GC11 ,  2D049GC13 ,  4G012MC02 ,  4G012PA06 ,  4G012PB17 ,  4G012PB26 ,  4G012PB29 ,  4G012PB31 ,  4G012PB40 ,  4G012PC05 ,  4G012PC08
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

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