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J-GLOBAL ID：200903075942373223

光学系による偏光状態への影響を決定する方法及び装置と、分析装置

Inventor： ウルリッヒ ヴェークマン ,  ミヒャエル ハートル ,  マルクス メンゲル ,  マンフレッド ダール ,  ヘルムート ハイドナー ,  マーティン シュリーファー ,  ミヒャエル トットツェック
Applicant, Patent owner： カール ツァイス エスエムテー アーゲー
Agent (1)： 田辺 徹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003279852
Publication number (International publication number)：2004061515
Application date： Jul. 25, 2003
Publication date： Feb. 26, 2004
Summary：

【課題】 光学系による偏光状態への影響を決定する方法及び装置と、分析装置を提供する。【解決手段】 本発明は、被験光学系による放射光線の偏光状態への影響を決定する方法及び装置であって、所定の入射偏光状態の放射光線を光学系に送り、出射偏光状態を測定し、入射偏光状態を基準として出射偏光状態を評価することによって、光学系による偏光状態への影響を決定する方法及び装置と、この目的に使用することができる分析装置とに関する。 本発明によれば、本方法及び装置を使用して、指定可能な開口の光学結像系による放射光線の偏光状態への影響を決定することができ、その決定はひとみ分解能で行われる。 たとえば、マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物レンズによる紫外線の偏光状態への影響の決定に使用される。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

被験光学系による放射光線の偏光状態への影響を決定する方法において、 所定の入射偏光状態の入射側放射光線を光学系に送り、 光学系から出る放射光線によって出射偏光状態を測定し、 入射偏光状態を基準として測定出射偏光状態を評価することによって、光学系による偏光状態への影響を決定する方法であって、 指定可能な開口の光学結像系によって生じる偏光状態への影響は、ひとみ分解能で決定される方法。

IPC (3)：

G01M11/02 ,  G01J4/04 ,  G02B27/28

FI (3)：

G01M11/02 B ,  G01J4/04 A ,  G02B27/28 Z

F-Term (6)：

2G086HH05 ,  2G086HH06 ,  2G086HH07 ,  2H099BA17 ,  2H099CA02 ,  2H099CA05

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (8)

• 米国特許第5,298,972号明細書
  
• 米国特許第5,396,329号明細書
  
• DE101 09 929A1号明細書
  
• 独国特許出願第102 17 242.0号
  
• 米国特許第6,344,898B1号明細書
  
• 米国特許第6,312,373号明細書
  
• 光学装置の検査方法及び装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-239290   Applicant：株式会社ニコン
• 投影光学系の収差計測方法及び装置、並びに露光方法及び装置
  Gazette classification：再公表公報   Application number：JP2001010154   Applicant：株式会社ニコン

Cited by examiner (1)

• 複屈折測定装置及び複屈折測定方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-111810   Applicant：株式会社ニコン