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J-GLOBAL ID:200903075944500605
マーク検査方法及び装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
小池 晃 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996192384
Publication number (International publication number):1998040380
Application date: Jul. 22, 1996
Publication date: Feb. 13, 1998
Summary:
【要約】【課題】 ICの種類が多くても、また新しいICが開発されたりしてもICパッケージ上のマークを容易かつ正確に認識し、検査時間を短縮する。【解決手段】 ICパッケージ14を撮影するビデオカメラ12と、ICパッケージ上のマーク位置及びマーク範囲をティーチングすると共に当該マーク位置及びマーク範囲に対応する位置及び範囲内のマークの画像パターンを基準マークパターンとしてティーチングし、これらマーク位置及びマーク範囲の情報と基準マークパターンの情報とを用いて検査対象のマークを検査する画像処理ユニット11と、マーク位置及びマーク範囲の情報と基準マークパターンの情報とを記憶する記憶装置18を有する。
Claim (excerpt):
画像処理を使用してマーク検査を行うマーク検査方法において、マーク位置及びマーク範囲を教示する第1の教示工程と、少なくともマークとその周辺の画像を取り込む画像取り込み工程と、上記マーク位置及びマーク範囲に対応する位置及び範囲内のマークの画像パターンを基準マークパターンとして教示する第2の教示工程と、上記マーク位置及びマーク範囲と上記基準マークパターンとを用いて、検査対象のマークを検査する検査工程とを有することを特徴とするマーク検査方法。
IPC (4):
G06T 7/00
, G01N 21/88
, H01L 23/00
, H05K 13/02
FI (5):
G06F 15/62 405 A
, G01N 21/88 E
, H01L 23/00 A
, H05K 13/02 D
, G06F 15/70 455 A
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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画像処理装置におけるモデル画像データ登録装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-261340
Applicant:オムロン株式会社
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ロゴマーク等のパターンの検査装置及び方法、並びにロゴマーク等のパターン辞書作成装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-014307
Applicant:日立エンジニアリング株式会社
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文字認識方法および装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-133994
Applicant:株式会社日立製作所, 日立コンピュータエンジニアリング株式会社
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パターン認識方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-102734
Applicant:ヤマハ発動機株式会社
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照明装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-153949
Applicant:松下電器産業株式会社
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特開平2-254308
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特開平2-254308
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