ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (5)：棚井澄雄 , 志賀正武 , 青山正和 , 鈴木三義 , 柳井則子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003416584
Publication number (International publication number)：2005173468
Application date： Dec. 15, 2003
Publication date： Jun. 30, 2005
Summary：

【課題】 LERの低減、解像性に優れたポジ型レジスト組成物、該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供すること。【解決手段】 (A)酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分として、多環式基含有酸解離性溶解抑制基を含む(メタ)アクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1)、ラクトン含有単環または多環式基を含む(メタ)アクリル酸エステルから誘導される構成単位(a2)、水酸基含有多環式基を含む(メタ)アクリル酸エステルから誘導される構成単位(a3)、および前記構成単位(a2)、(a3)以外の多環式基含有非酸解離性溶解抑制基を含む(メタ)アクリル酸エステルから誘導される構成単位(a4)を含む共重合体、(B)露光により酸を発生する酸発生剤成分として、下記一般式(b-1)または(b-2)で表される少なくとも1種のスルホニウム化合物を含有するポジ型レジスト組成物。【化1】【選択図】なし

Claim (excerpt)：

(A)酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分、および(B)露光により酸を発生する酸発生剤成分を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記樹脂成分(A)が、多環式基含有酸解離性溶解抑制基を含む(メタ)アクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1)、ラクトン含有単環または多環式基を含む(メタ)アクリル酸エステルから誘導される構成単位(a2)、水酸基含有多環式基を含む(メタ)アクリル酸エステルから誘導される構成単位(a3)、および前記構成単位(a2)、(a3)以外の多環式基含有非酸解離性溶解抑制基を含む(メタ)アクリル酸エステルから誘導される構成単位(a4)を含む共重合体であり、前記酸発生剤成分(B)が、下記一般式(b-1)または(b-2)

IPC (4)：

G03F7/004 , C08F220/18 , G03F7/033 , H01L21/027

FI (4)：

G03F7/004 503A , C08F220/18 , G03F7/033 , H01L21/30 502R

F-Term (30)：

2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AB16 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CA48 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 2H025CB45 , 2H025CB55 , 2H025CC20 , 2H025FA12 , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100AL08S , 4J100BA03R , 4J100BA20P , 4J100BC09P , 4J100BC09R , 4J100BC09S , 4J100BC12P , 4J100BC12S , 4J100BC53Q , 4J100CA06 , 4J100DA01 , 4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

ポジ型レジスト組成物及びレジストパターンの形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-369340 Applicant：東京応化工業株式会社

Return to Previous Page