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J-GLOBAL ID:200903076367580617
高配向性ダイヤモンド薄膜
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
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Agent (1):
藤巻 正憲
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993315558
Publication number (International publication number):1995069789
Application date: Dec. 15, 1993
Publication date: Mar. 14, 1995
Summary:
【要約】【目的】 結晶粒界が少なくキャリアの移動度が高いと共に、大面積の薄膜が得られる高配向性ダイヤモンド薄膜を提供する。【構成】 高配向性ダイヤモンド薄膜は、気相合成によって形成されたダイヤモンド薄膜である。そして、この薄膜表面積の95%以上がダイヤモンドの(100)結晶面又は(111)結晶面で構成されており、隣接する(100)結晶面又は(111)結晶面について、その結晶面方位を表すオイラー角{α,β,γ}の差{△α,△β,△γ}が|△α|≦1°、|△β|≦1°、|△γ|≦1°を同時に満足する。
Claim (excerpt):
気相合成によって形成されたダイヤモンド薄膜であって、その薄膜表面積の95%以上がダイヤモンドの(100)結晶面から構成されており、隣接する(100)結晶面について、その結晶面方位を表すオイラー角{α,β,γ}の差{△α,△β,△γ}が|△α|≦1°、|△β|≦1°、|△γ|≦1°を同時に満足することを特徴とする高配向性ダイヤモンド薄膜。
IPC (3):
C30B 29/04
, C30B 25/02
, H01L 21/205
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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特開昭63-252998
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特開平3-237091
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特開平4-077395
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特開平4-092893
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特開平4-132687
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ダイヤモンド基板及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-283939
Applicant:住友電気工業株式会社
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ダイヤモンド結晶
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-331591
Applicant:キヤノン株式会社
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