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J-GLOBAL ID:200903076427600671
積層型半導体装置およびその製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
鈴木 喜三郎 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999017134
Publication number (International publication number):2000216330
Application date: Jan. 26, 1999
Publication date: Aug. 04, 2000
Summary:
【要約】【課題】ICを三次元に積層してなるチップオンチップ構造を容易に製造する。【解決手段】ボンディングパッドからICチップ端面までインクジェット方式により電気的導通配線形成した後、ICチップを接着性樹脂の介在により積層、接着し再度インクジェット方式により電気的導通配線を形成して各ICチップを電気的に接続する。
Claim (excerpt):
ICチップの各ボンディングパッドからチップ端面までに電気的導通配線が形成され、さらに該チップの全面もしくは一部に接着性のある樹脂層が形成され、同様に形成された電気的に別機能を持つ複数のチップが該樹脂層により接着、積層され、さらに各チップ端面を横断してなる電気的導通配線により積層された全チップが接続されたことを特徴とする積層型半導体装置。
IPC (4):
H01L 25/065
, H01L 25/07
, H01L 25/18
, H01L 23/52
FI (2):
H01L 25/08 Z
, H01L 23/52 C
Patent cited by the Patent: