偏光解析装置を用いた偏光解析方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003407485
Publication number (International publication number)：2005164540
Application date： Dec. 05, 2003
Publication date： Jun. 23, 2005
Summary：

【課題】波長板アレイおよび偏光子アレイを用いた、駆動部のない偏光解析装置およびエリプソメータにおいて、測定される強度分布パターンから入射光の偏光状態を解析するアルゴリズムを提供する。【解決手段】受光素子アレイによって観測される2次元強度分布パターンの解析手法として、パターン形状を数学的にフィッティングするか、またはデータベースとのマッチングを行うことにより入射偏波を求める方法、もしくはパターン形状をフーリエ変換し、その周波数成分から入射偏波を求める方法の、どちら一方または両方のアルゴリズムを用いる。これらの方法は、波長板アレイの位相差に設計値からのズレがある場合も、ズレ量を自己補正することが可能であるため非常に有効である。さらに必要により、不要な散乱光や回折光を受光する受光素子領域からの信号を除去するような信号処理方法を採用することにより、より高精度な偏波解析も可能となる。【選択図】図4

Claim (excerpt)：

位相差が一定で光軸方向が異なる複数の領域を有する波長板アレイ、および透過する偏波の方向が異なる複数の領域を有する偏光子アレイが、前記波長板アレイを前面、前記偏光子アレイを後面となるように重なるように配置され、波長板のある領域と偏光子のある領域を通過した光を個別に受光することのできるような受光素子アレイを2次元的に配置した偏光解析装置において、前記の受光素子アレイによって観測される2次元強度分布パターンが少数の周波数成分のみによって表される特徴を利用することによって、入射光の偏光状態を求めることを特徴とする偏光解析方法または偏光解析システム。

IPC (2)：

G01J4/04 , G01N21/21

FI (2)：

G01J4/04 Z , G01N21/21 Z

F-Term (11)：

2G059AA02 , 2G059AA05 , 2G059BB10 , 2G059EE05 , 2G059FF01 , 2G059GG04 , 2G059JJ19 , 2G059JJ20 , 2G059KK04 , 2G059LL04 , 2G059MM14

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

特願2003-363854

Cited by examiner (2)

特開平4-147040
偏光計測装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-305680 Applicant：浜本哲也, 科学技術振興事業団

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