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J-GLOBAL ID:200903076654490319

上塗りされたフォトレジストとともに使用されるコーティング組成物

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 千田 稔 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002281740
Publication number (International publication number):2003233195
Application date: Sep. 26, 2002
Publication date: Aug. 22, 2003
Summary:
【要約】 (修正有)【課題】集積回路製造のための上塗りのフォトレジスト層と共に使用されるのに有用な反射防止コーティング組成物の提供。【解決手段】第1の態様では、有機コーティング組成物が提供され、特にはスピンオン反射防止コーティング組成物であって、ポリエステル樹脂成分を有するものが提供される。さらなる態様においては、多ヒドロキシ化合物の重合により得られる樹脂成分を含むコーティング組成物が提供される。
Claim (excerpt):
ポリエステル樹脂を含む反射防止組成物層、および該反射防止組成物層の上のフォトレジスト層を含む、被覆された基体。
IPC (4):
G03F 7/11 503 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027
FI (4):
G03F 7/11 503 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R
F-Term (11):
2H025AA02 ,  2H025AA13 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025DA34
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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