高酸化性水の生成方法及び装置

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小谷悦司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999178906
Publication number (International publication number)：2001010808
Application date： Jun. 24, 1999
Publication date： Jan. 16, 2001
Summary：

【要約】【課題】水中放電により実用的に十分なレベルの酸化性能を示す高濃度のオゾンまたはOHラジカルを含む高酸化性水を、優れた電力効率および生産性で得ることのできる方法と装置を提供すること。【解決手段】水中に高圧下で酸素リッチガスを溶解させ、次いで圧力を低下させることにより、該溶解された酸素リッチガスを前記水中へ微細気泡として発生させ、この微細気泡をパルス放電下に曝すことによって、オゾン及び/又はOHラジカル溶解量の高い高酸化性水を作る。またこの方法の実施に適した構成の装置を開示する。

Claim (excerpt)：

水中に高圧下で酸素リッチガスを溶解させ、次いで圧力を低下させることにより、溶解された酸素リッチガスを前記水中へ微細気泡として発生させ、この微細気泡をパルス放電下に曝すことによって、オゾン及び/又はOHラジカル溶解量の高い高酸化性水を作ることを特徴とする高酸化性水の生成方法。

IPC (5)：

C01B 13/11 , B01J 19/08 , C01B 5/00 , C02F 1/46 , C02F 1/72

FI (5)：

C01B 13/11 Z , B01J 19/08 E , C01B 5/00 Z , C02F 1/46 Z , C02F 1/72

F-Term (31)：

4D050AA01 , 4D050AA12 , 4D050BB01 , 4D050BB02 , 4D050BB20 , 4D050BC02 , 4D050BD02 , 4D050BD03 , 4D050BD04 , 4D050BD06 , 4D050BD08 , 4D061DA01 , 4D061DA08 , 4D061DB07 , 4D061DB19 , 4D061EA15 , 4D061EB07 , 4D061FA16 , 4D061FA20 , 4G042CA01 , 4G042CB01 , 4G042CE01 , 4G075AA15 , 4G075AA37 , 4G075BA05 , 4G075BA06 , 4G075CA05 , 4G075CA15 , 4G075CA51 , 4G075EB01 , 4G075EC21

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

特開平4-310503
特開昭64-047429
液体の殺菌装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-185651 Applicant：日新電機株式会社

Show all

Return to Previous Page