Pat
J-GLOBAL ID:200903076856186140
新規なシリコーン化合物、この化合物で表面処理された粉体及びこの化合物を含有する化粧料
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
滝田 清暉 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000027790
Publication number (International publication number):2001213964
Application date: Feb. 04, 2000
Publication date: Aug. 07, 2001
Summary:
【要約】 (修正有)【課題】 エステル油やトリグリセライドなどの一般油剤やシリコーン系油剤などとなじみがよいシリコーン化合物、及びさらさらとした使用感を有すると共に、分散性に優れ、乳化安定性に優れた化粧料を提供する。【解決手段】 化学式1例えば(式中、R*=-C2H4Si(OEt)3、及びである。)で表されるシリコーン化合物、このシリコーン化合物で表面処理された粉体及びこれを含有する化粧料。
Claim (excerpt):
化学式1で表されるシリコーン化合物(式中、R1は炭素数1〜30のアルキル基、アリール基、アルラルキル基、フッ素置換アルキル基及びオルガノポリシロキサニルシリルアルキル基から成る群から選択される少なくとも1種の有機基であり、R2は水素原子、ヒドロキシ基及び炭素数1〜6のアルコキシ基から成る群から選択される少なくとも1種の反応性置換基又は前記反応性置換基に炭素、酸素及びケイ素から成る群から選択される少なくとも1種が結合した反応性置換基であり、R3は下記化学式2で表されるカルボン酸エステル残基であって、R4は炭素数2〜30の飽和又は不飽和炭化水素基であり、Qはヘテロ原子を含んでもよい二価の炭化水素基であり、aは1.0〜2.5であり、bは0.001〜1.5であり、cは0.001〜1.5である。)。
IPC (16):
C08G 77/14
, A61K 7/00
, A61K 7/02
, A61K 7/032
, A61K 7/06
, A61K 7/32
, A61K 7/42
, C01B 33/42
, C01G 9/02
, C01G 23/04
, C08K 3/22
, C08K 3/34
, C08K 9/06
, C08L 83/04
, C08L 83/07
, C08L101/14
FI (21):
C08G 77/14
, A61K 7/00 C
, A61K 7/00 J
, A61K 7/00 N
, A61K 7/00 R
, A61K 7/00 S
, A61K 7/00 E
, A61K 7/02 P
, A61K 7/032
, A61K 7/06
, A61K 7/32
, A61K 7/42
, C01B 33/42
, C01G 9/02 Z
, C01G 23/04 Z
, C08K 3/22
, C08K 3/34
, C08K 9/06
, C08L 83/04
, C08L 83/07
, C08L101/14
F-Term (129):
4C083AA112
, 4C083AA122
, 4C083AB051
, 4C083AB102
, 4C083AB211
, 4C083AB212
, 4C083AB222
, 4C083AB232
, 4C083AB241
, 4C083AB242
, 4C083AB332
, 4C083AB352
, 4C083AB372
, 4C083AB431
, 4C083AB432
, 4C083AC022
, 4C083AC061
, 4C083AC102
, 4C083AC122
, 4C083AC132
, 4C083AC182
, 4C083AC342
, 4C083AC422
, 4C083AC442
, 4C083AC482
, 4C083AC542
, 4C083AC842
, 4C083AD072
, 4C083AD112
, 4C083AD161
, 4C083AD162
, 4C083AD172
, 4C083AD662
, 4C083BB13
, 4C083BB25
, 4C083BB46
, 4C083CC02
, 4C083CC11
, 4C083CC14
, 4C083CC17
, 4C083CC31
, 4C083DD05
, 4C083DD08
, 4C083DD17
, 4C083DD21
, 4C083DD22
, 4C083DD23
, 4C083DD31
, 4C083DD41
, 4C083EE06
, 4C083EE07
, 4C083EE17
, 4C083FF01
, 4G047AA02
, 4G047AB05
, 4G047AC02
, 4G047AD03
, 4G047CA02
, 4G047CB09
, 4G047CC01
, 4G047CD03
, 4G073BA05
, 4G073BA57
, 4G073BA63
, 4G073BB58
, 4G073BD16
, 4G073CA06
, 4G073CM22
, 4G073CN03
, 4G073UB31
, 4J002AB03W
, 4J002AB04W
, 4J002AB05W
, 4J002AC01W
, 4J002AD01W
, 4J002AE03X
, 4J002AE05X
, 4J002AJ00W
, 4J002BD12X
, 4J002BE04W
, 4J002BF01W
, 4J002BG01W
, 4J002BG04W
, 4J002BG13W
, 4J002CH02W
, 4J002CH05X
, 4J002CM01W
, 4J002CP04Z
, 4J002CP05Z
, 4J002CP16Y
, 4J002DA037
, 4J002DE077
, 4J002DE097
, 4J002DE107
, 4J002DE117
, 4J002DE137
, 4J002DE147
, 4J002DE237
, 4J002DG047
, 4J002DG057
, 4J002DJ007
, 4J002DJ037
, 4J002DJ047
, 4J002DJ057
, 4J002EC066
, 4J002EF056
, 4J002EH036
, 4J002EH046
, 4J002EH056
, 4J002EH096
, 4J002FD310
, 4J002GB00
, 4J002HA06
, 4J035BA02
, 4J035CA022
, 4J035CA052
, 4J035CA062
, 4J035CA072
, 4J035CA102
, 4J035CA132
, 4J035CA142
, 4J035CA15N
, 4J035CA152
, 4J035CA25M
, 4J035EA01
, 4J035FB01
, 4J035FB05
, 4J035LA05
, 4J035LB14
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (12)
-
特開平1-297421
-
特開平2-045533
-
特開昭56-086922
-
特開平4-227618
-
毛髪化粧料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-138096
Applicant:花王株式会社
-
特開平4-036287
-
特開平3-118311
-
特開平2-101083
-
特開平3-005488
-
特開昭63-135426
-
特開昭63-086922
-
化粧料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-169265
Applicant:信越化学工業株式会社
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