Pat
J-GLOBAL ID:200903077005853735
軽量基板薄膜半導体装置および液晶表示装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
高崎 芳紘
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995268668
Publication number (International publication number):1997116158
Application date: Oct. 17, 1995
Publication date: May. 02, 1997
Summary:
【要約】 (修正有)【課題】 携帯用表示装置には、軽量、小型で耐衝撃性が要求される。すなわち、非耐熱性の軽量基板を使う液晶ディスプレイが必要で、高精細小型の観点から、p-Si TFTを使った周辺回路内蔵の液晶ディスプレイが不可欠となる。本発明は、ディスプレイの小型、軽量化が可能な軽量基板薄膜半導体装置および液晶表示装置を提供する。【解決手段】 小型、軽量化、耐衝撃性を実現するため、軽量基板としてプラスチック基板1または厚さ0.5mm以下の可撓な薄型ガラス基板を使用する。また、この非耐熱性の基板に高性能の p-Si TFT を形成するため、レーザ結晶化法5を用いる。レーザ結晶化の熱が基板に直接伝導しないようにするため、基板の上に熱放散手段2を設け、また、過度の熱入射がないように、照射レーザビーム量を制限する。
Claim (excerpt):
軽量の基板と、その基板上に形成した薄膜半導体部と、より成る軽量基板薄膜半導体装置において、半導体膜の結晶化をエネルギービームにより行なう際の熱による上記基板の損傷を防止するのに十分な熱放散手段を、上記基板の上であって上記半導体膜の下方に有することを特徴とする軽量基板薄膜半導体装置。
IPC (6):
H01L 29/786
, H01L 21/336
, G02F 1/136 500
, H01L 21/20
, H01L 21/268
, H01L 27/12
FI (5):
H01L 29/78 627 G
, G02F 1/136 500
, H01L 21/20
, H01L 21/268 Z
, H01L 27/12 R
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (11)
-
特開平4-033327
-
特開平4-033327
-
特開平4-033327
-
特開平1-251654
-
薄膜トランジスタ用単結晶シリコン層の形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-336646
Applicant:日新電機株式会社
-
液晶表示装置及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-011386
Applicant:株式会社日立製作所
-
薄膜トランジスタ基板及び液晶表示装置及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-244521
Applicant:株式会社日立製作所
-
特開平4-033327
-
特開平1-251654
-
特開平4-033327
-
特開平4-033327
Show all
Return to Previous Page