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J-GLOBAL ID：200903077105378821

静電場処理方法及び静電場処理装置

Inventor：
伊東 昭典

About 伊東 昭典


Applicant, Patent owner：
エル・エフ・ラボラトリー株式会社

About エル・エフ・ラボラトリー株式会社


Agent (1)： 石川 泰男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999105752
Publication number (International publication number)：2000297976
Application date： Apr. 13, 1999
Publication date： Oct. 24, 2000
Summary：
【要約】【課題】 静電場を種々の機器の効率よく搭載することを目的とする。【解決手段】 冷蔵庫内で米の貯蔵、サラダバーでのカット野菜の鮮度保持、電場箱による冷蔵庫内への電場付与及びフライヤーへの電場組込みを塩化ビニール、テフロン、シリコン等の絶縁材を利用して行なう。
Claim (excerpt)：
被処理物を静電場雰囲気内に設置して、迅速に冷却することを特徴とする静電場処理方法。
IPC (3)：
F25D 11/00 101 ,  A47J 37/12 301 ,  H05B 6/00
FI (3)：
F25D 11/00 101 Z ,  A47J 37/12 301 ,  H05B 6/00
F-Term (36)：
3K059AA10 ,  3K059AA12 ,  3K059AA18 ,  3K059AB14 ,  3K059AC08 ,  3K059AC22 ,  3K059AC69 ,  3K059AD03 ,  3K059BD13 ,  3K059CD09 ,  3K059CD18 ,  3L045AA02 ,  3L045AA04 ,  3L045BA01 ,  3L045BA02 ,  3L045CA02 ,  3L045DA01 ,  3L045EA02 ,  3L045EA03 ,  3L045KA04 ,  3L045LA18 ,  3L045MA20 ,  3L045NA16 ,  3L045PA04 ,  3L045PA06 ,  4B059AA01 ,  4B059AB02 ,  4B059AC02 ,  4B059AC13 ,  4B059AD20 ,  4B059AE11 ,  4B059AE12 ,  4B059BG03 ,  4B059BG08 ,  4B059DA01 ,  4B059DA05
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (7)
  • 特開昭50-084948
  • 特開昭55-158014
  • 特開昭61-056062
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