リソグラフィ投影装置、デバイス製造方法、およびそれらによって製造されたデバイス

Inventor： ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：浅村皓 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001262809
Publication number (International publication number)：2002110539
Application date： Aug. 31, 2001
Publication date： Apr. 12, 2002
Summary：

【要約】【課題】プラズマ放射線源を備えるリソグラフィ投影装置において、放射線システム内に含まれるミラーに対する高速イオン等による損傷を低減するための手段を提供すること。【解決手段】装置内部のミラーを収容する空間に、ミラー表面上に保護キャップ層を生成する炭化水素ガスを供給する。空間内の炭化水素ガスの分圧は、空間内のバックグラウンド圧力および/またはミラーの反射率の変化に応答して制御され、それによりミラー上のキャップ層の厚さが許容可能な範囲内で維持される。キャップ層、および/または付加的な多層がミラー上に提供されている場合にはミラーの上層をスパッタ除去するために、炭化水素の分圧を増大させ、それにより清浄なミラー表面を提供する。使用される炭化水素はアルコールであってよく、その場合、生成されたキャップ層が自己終結する。

Claim (excerpt)：

放射線の投影ビームを供給するための放射線システムと、該投影ビームを所望のパターンに従ってパターニングするパターニング手段を支持するための支持構造体と、基板を保持するための基板テーブルと、前記パターニングされたビームを基板のターゲット部分に投影するための投影システムとを有するリソグラフィ投影装置において、ミラーを収容している空間にガス状炭化水素を供給するためのガス供給手段と、前記ミラーの反射率を監視するための反射率センサ手段および前記空間内のバックグラウンド圧力を監視するための圧力センサ手段のうちの少なくとも一方と、前記反射率センサ手段および/または圧力センサ手段によってそれぞれ測定された反射率および/またはバックグラウンド圧力に応答して前記ガス供給手段を制御するための制御手段とを有することを特徴とするリソグラフィ投影装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 505 , G03F 7/20 521

FI (3)：

G03F 7/20 505 , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 516 F

F-Term (10)：

2H097AA03 , 2H097BB02 , 2H097CA06 , 2H097CA17 , 2H097JA02 , 2H097LA10 , 5F046AA22 , 5F046CB02 , 5F046DA27 , 5F046DB03

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

特開平4-233717
特開平2-042713
特開昭58-225636

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