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J-GLOBAL ID：200903077361205268

フォトレジスト組成物及びフォトレジスト像形成方法

Inventor： ハーバンス・シング・サチデーブ ,  ウィラード・アール・コンリー ,  プレームラータ・ジャガンナタン ,  アフマド・ダーウード・カトナーニ ,  ラニー・ワイ=リン・クウォン ,  レオ・ローレンス・リネハン ,  スティーヴ・セイイチ・ミウラ ,  ランドルフ・ジョーゼフ・スミス
Applicant, Patent owner： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
Agent (1)： 頓宮 孝一 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992331268
Publication number (International publication number)：1993249676
Application date： Nov. 18, 1992
Publication date： Sep. 28, 1993
Summary：

【要約】【目的】 本発明の目的は、深紫外線、i線、電子線およびX線リソグラフィに使用する高感度、高コントラストのフォトレジスト組成物を提供することにある。【構成】 これらの組成物は、求電子置換のために活性化された芳香族環を有する皮膜形成性の重合体と、水酸基で安定化されたカルボニウム・イオンを生成する酸の触媒作用を受ける架橋剤と、放射線により酸を生成するフォトアシッド生成物質とを含む。この組成物は、水溶性塩基で現像することができる。

Claim (excerpt)：

水溶性の塩基により現像可能なフォトレジスト組成物であって、(a)官能基を有し、上記官能基により活性化され芳香族求電子置換を起こして安定化される、皮膜形成性の芳香族重合体樹脂と、(b)酸と反応して、安定なカルボニウム・イオンを生成する、酸触媒架橋剤と、(c)結像用放射線を吸収して前記組成物の露光部分を架橋させるに適合した、放射線により分解される酸生成物質と、の混合物を含む前記組成物。

IPC (5)：

G03F 7/038 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/312

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

• 特開昭63-231442
  
• 特開昭63-231442
  
• 特開平2-154266
  
• 特開平3-152543
  
• 特開昭62-102243
  
• 特開昭63-178228
  
• 特開平2-191248
  
• 特開昭63-220139
  
• 感光性組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-194444   Applicant：三菱化成株式会社