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J-GLOBAL ID:200903077473975767

チオール化合物の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 金田 暢之 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001089966
Publication number (International publication number):2001342172
Application date: Mar. 27, 2001
Publication date: Dec. 11, 2001
Summary:
【要約】【課題】 高硫黄含有率のポリチオール化合物の容易な製造方法を提供する。【解決手段】 一般式(1)HS-R1(-S-R2)n (1)(式中、nは1以上の整数を示し、R1は芳香族、脂肪族、脂環族、複素環、もしくは、鎖中に芳香環または硫黄原子を有する脂肪族、脂環族、複素環有機残基を示す。R2は保護基を示す。)で表される化合物と、メルカプト基と反応する官能基を有する化合物とを反応させた後、-S-R2を-SH化する事を特徴としたポリチオール化合物の製造方法。
Claim (excerpt):
一般式(1)HS-R1(-S-R2)n (1)(式中、nは1以上の整数を示し、R1は芳香族、脂肪族、脂環族、複素環、もしくは、鎖中に芳香環または硫黄原子を有する脂肪族、脂環族、複素環有機残基を示す。R2は保護基を示す。)で表される化合物と、メルカプト基と反応する官能基を有する化合物とを反応させた後、-S-R2を-SH化する事を特徴とするチオール化合物の製造方法。
IPC (2):
C07C319/20 ,  C07C323/64
FI (2):
C07C319/20 ,  C07C323/64
F-Term (7):
4H006AA02 ,  4H006AB46 ,  4H006AC63 ,  4H006TA04 ,  4H006TB73 ,  4H006TB74 ,  4H006TB75
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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