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J-GLOBAL ID：200903077554315001

ウエハの位置把握方法並びに露光方法及び露光装置

Inventor： 上田 拓志 ,  橋爪 繁直 ,  山下 伸介 ,  御厨 徹雄 ,  馬場 敏之
Applicant, Patent owner： 日立金属株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998097367
Publication number (International publication number)：1999264718
Application date： Apr. 09, 1998
Publication date： Sep. 28, 1999
Summary：

【要約】【課題】 ウエハのエッジを撮像し、画像処理で複数エッジ部の所定位置の座標を求め、ウエハ基準点の座標と姿勢を算出する方法、並びにこれをもとにパターンをウエハ上の所定位置に露光する方法及び装置を提供する。【解決手段】 ウエハの複数のエッジにおいて、設定した2値化レベルからエッジ画素を求め、このエッジ画像座標から所定エッジ形状の近似式を算出し、算出式からのエッジがそのバラツキが所定範囲にあるかどうかを判定し、所定範囲にない場合は、所定範囲内に入るまで2値化レベルを修正して前記処理を繰り返し、所定範囲にある場合の近似式を選定し、これらの近似式をもとに予め設定したウエハの基準点と姿勢を算出する。またカメラとステージの座標の回転ずれを補正して、パターンをウエハに位置合わせする。

Claim (excerpt)：

ウエハの複数の所定箇所のエッジを撮像し、画像処理で画面内エッジの近似式又は近似式上の所定点の座標を求め、各撮像対象のエッジの相互位置関係とをもとに、ウエハ外周部を数式で表し、これをもとに予め設定したウエハ基準部の座標と傾きを算出するウエハの位置把握方法であって、前記近似式は、設定した2値化レベルからエッジ画素を求め、このエッジ画素座標から所定エッジ形状で表される数式を算出し、この算出式からのエッジ画素のバラツキが所定範囲にあるかどうかを判定し、所定範囲にない場合は、所定範囲内に入るまで2値化レベルを修正して前記処理を繰り返し、所定範囲にある場合の算出式とすることを特徴とするウエハの位置把握方法。

IPC (3)：

G01B 11/00 ,  G03F 9/00 ,  H01L 21/027

FI (4)：

G01B 11/00 C ,  G01B 11/00 H ,  G03F 9/00 A ,  H01L 21/30 525 W

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 幅及び長さ計測方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-107754   Applicant：新日本製鐵株式会社
• 座標変換係数の自動設定方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-322027   Applicant：セイコー電子工業株式会社
• 特開平2-101613