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J-GLOBAL ID：200903077557623297

酸性排ガスの処理方法

Inventor： 長 俊連 ,  大山 隆一 ,  鎌田 裕
Applicant, Patent owner： 多摩化学工業株式会社 ,  株式会社東芝
Agent (1)： 成瀬 勝夫 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995121261
Publication number (International publication number)：1996057246
Application date： May. 19, 1995
Publication date： Mar. 05, 1996
Summary：

【要約】【目的】 周囲の環境を汚染することのないクリーンな条件下で排ガス中の酸性成分を容易にかつ効率的に処理することができる酸性排ガスの処理方法を提供する。【構成】 排ガスをアルカリ性のガス処理液と接触させてこの排ガス中の酸性成分を分離除去する酸性排ガスの処理方法において、酸性排ガスを第四アンモニウム化合物の水溶液からなるガス処理液と接触させ、この酸性排ガスから酸性成分を分離除去する酸性排ガスの処理方法である。【効果】 周囲の環境を汚染することのないクリーンな条件下で酸性成分、特に弗素及び/又は弗素化合物を含む酸性排ガスを容易にかつ効率的に処理することができ、それ故に、半導体製造プロセスのクリーンルーム内で実施することも可能であり、特に半導体製造プロセスで発生する弗素及び/又は弗素化合物を含む酸性排ガスの処理に好適である。

Claim (excerpt)：

排ガスをアルカリ性のガス処理液と接触させてこの排ガス中から酸性成分を分離除去する酸性排ガスの処理方法において、酸性排ガスを下記一般式(1)【化1】(但し、式中R1 〜R4 は互いに同一又は異なる炭素数1〜3のアルキル基又はヒドロキシ置換アルキル基を示し、XはOH- 又は1/2CO32- を示す)で表される第四アンモニウム化合物の水溶液からなるガス処理液と接触させ、この酸性排ガスから酸性成分を分離除去することを特徴とする酸性排ガスの処理方法。

IPC (4)：

B01D 53/40 ,  B01D 53/77 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/68

FI (4)：

B01D 53/34 118 D ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/34 134 D ,  B01D 53/34 134 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• ドライエッチング排ガスの処理方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-098461   Applicant：昭和電工株式会社