オゾンと光触媒による排水の処理方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：工業技術院物質工学工業技術研究所長
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995237428
Publication number (International publication number)：1997075959
Application date： Sep. 14, 1995
Publication date： Mar. 25, 1997
Summary：

【要約】【課題】光触媒の利点である汚染物質の完全無機化の効果を生しつつ、高濃度の汚染物排水を迅速に処理し、しかも工程の単純な方法を提供する。【解決手段】光触媒の存在下及び波長290nm以下の光の照射下において、排水をオゾンで処理することを特徴とする排水の処理方法。

Claim (excerpt)：

光触媒の存在下及び波長290nm以下の光の照射下において、排水をオゾンで処理することを特徴とする排水の処理方法。

IPC (4)：

C02F 1/78 , B01J 21/06 , B01J 35/02 , C02F 1/32 ZAB

FI (4)：

C02F 1/78 , B01J 21/06 M , B01J 35/02 J , C02F 1/32 ZAB

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

流体の光化学反応処理方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-348505 Applicant：株式会社日本フォトサイエンス

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