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J-GLOBAL ID：200903077593205728

パターン認識装置

Inventor： 光山 訓 ,  本池 順 ,  大和田 伯男 ,  小島 康明
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995249082
Publication number (International publication number)：1997091430
Application date： Sep. 27, 1995
Publication date： Apr. 04, 1997
Summary：

【要約】【目的】認識・分類が困難で、人間が認識対象から外すような対象を検出し除去して、認識・分類を行なうパターン認識装置を提供する。【構成】認識対象の特徴量を求め(S6)、特徴量のうちの大きさに注目し、非常に小さな対象は処理から除外し(S7)、さらに、ニューラルネットワークの各出力素子の出力値を参照して認識の信頼性を表すパラメータを求め、信頼性評価を行なうための閾値と比較して認識の信頼性を評価し、信頼性が低い時には認識・分類から除去する(S8、S9)。【効果】自動認識を行なっても信頼性が低い対象を検出し、処理過程から除去し処理効率を向上する。

Claim (excerpt)：

認識対象の特徴量を入力情報として入力する入力層と、前記入力情報を処理する中間層と、処理結果を出力する出力層からなるネットワーク構造を有するパターン認識処理手段を有し、該パターン認識処理手段により、前記出力層を構成する前記入力情報に対応する各出力素子の出力値を比較し、該出力値が最大である前記出力素子に対応する分類項目を、前記入力情報に対する認識結果として、該認識結果を記憶手段に記憶するパターン認識装置において、前記各出力素子の出力値より前記認識結果の信頼性を評価する信頼性評価手段を設け、該信頼性評価手段により信頼性が高いと判断された前記認識結果を前記憶手段に記憶することを特徴とするパターン認識装置。

IPC (4)：

G06T 7/00 ,  G01N 15/02 ,  G01N 15/14 ,  G06F 15/18 560

FI (5)：

G06F 15/70 465 A ,  G01N 15/02 B ,  G01N 15/14 B ,  G01N 15/14 C ,  G06F 15/18 560 C

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 画像判別装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-261125   Applicant：オムロン株式会社
• 粒子分析装置及び粒子分析方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-300802   Applicant：株式会社日立製作所