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J-GLOBAL ID：200903077619175563

フッ素アパタイトの製造方法、フッ素アパタイトおよび吸着装置

Inventor：
石川 剛

About 石川 剛

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小河原 善幸

About 小河原 善幸

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吉武 朋彦

About 吉武 朋彦

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村上 由希子

About 村上 由希子


Applicant, Patent owner：
HOYA株式会社

About HOYA株式会社


Agent (2)： 増田 達哉 ,  朝比 一夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007203553
Publication number (International publication number)：2009035464
Application date： Aug. 03, 2007
Publication date： Feb. 19, 2009
Summary：
【課題】結晶性を向上させることにより、耐酸性の改善を図ったフッ素アパタイトを製造し得るフッ素アパタイトの製造方法、耐酸性の高いフッ素アパタイトおよびかかるフッ素アパタイトを備える吸着装置を提供する。【解決手段】ハイドロキシアパタイトを含むスラリーを調製する工程と、フッ化水素を含有するフッ化水素含有液を調製する工程と、前記スラリーと前記フッ化水素含有液とを混合して、前記スラリーのpHを2.5〜5に調整し、この状態で、前記スラリー中において前記ハイドロキシアパタイトと前記フッ化水素とを反応させることにより、前記ハイドロキシアパタイトが有する水酸基の少なくとも一部を、フッ素原子で置換してフッ素アパタイトを得る工程とを有する。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
ハイドロキシアパタイトを含むスラリーを調製する工程と、 フッ化水素を含有するフッ化水素含有液を調製する工程と、 前記スラリーと前記フッ化水素含有液とを混合して、前記スラリーのpHを2.5〜5に調整し、この状態で、前記スラリー中において前記ハイドロキシアパタイトと前記フッ化水素とを反応させることにより、前記ハイドロキシアパタイトが有する水酸基の少なくとも一部を、フッ素原子で置換してフッ素アパタイトを得る工程とを有することを特徴とするフッ素アパタイトの製造方法。
IPC (5)：
C01B 25/32 ,  B01J 20/281 ,  B01J 20/30 ,  G01N 30/00 ,  G01N 30/88
FI (7)：
C01B25/32 B ,  B01J20/02 D ,  B01J20/30 ,  G01N30/00 J ,  G01N30/88 101C ,  G01N30/88 201X ,  G01N30/88 201G
F-Term (19)：
4G066AA17A ,  4G066AA31B ,  4G066AA36B ,  4G066AA49B ,  4G066AA50A ,  4G066BA09 ,  4G066BA20 ,  4G066BA22 ,  4G066BA38 ,  4G066CA54 ,  4G066DA11 ,  4G066EA01 ,  4G066FA03 ,  4G066FA14 ,  4G066FA22 ,  4G066FA34 ,  4G066FA36 ,  4G066FA37 ,  4G066FA38
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2) Cited by examiner (2)
Article cited by the Patent：
Cited by applicant (1) Cited by examiner (1)

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