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J-GLOBAL ID：200903077659542712

被分析物担体およびその製造方法

Inventor：
石田 陽平

About 石田 陽平


Applicant, Patent owner：
キヤノン株式会社

About キヤノン株式会社


Agent (3)： 山下 穣平 ,  志村 博 ,  永井 道雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004331860
Publication number (International publication number)：2006145230
Application date： Nov. 16, 2004
Publication date： Jun. 08, 2006
Summary：
【課題】基板を限定されない高感度の被分析物担体を得る。【解決手段】該被分析物担体は、基板と、該基板上に配置され、かつ、該基板に対してほぼ垂直に形成された複数の細孔を有する多孔質体薄膜と、該多孔質体薄膜の表面および細孔の表面を被覆した被覆金属とから構成され、前記多孔質体薄膜の酸素を除く主成分がシリコン、またはゲルマニウム、またはシリコンとゲルマニウムの混合物である。この被分析物担体は、基板上に、第1の成分を含み構成される柱状物質が、前記第1の成分と共晶を形成し得る半導体材料である第2の成分を含み構成される部材中に分散している構造体薄膜を形成する工程と、前記柱状物質を除去し、多孔質体薄膜を形成する工程と、金属化合物を含む溶液を多孔質体薄膜の細孔中に導入する工程と及び、前記金属化合物を化学変化させて多孔質体薄膜の表面および細孔の表面に金属を析出させる工程とで作製する。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
ラマン分光分析に用いる被分析物を坦持するための担体であって、 基板と、該基板上に配置され、かつ、該基板に対してほぼ垂直に形成された複数の細孔を有する多孔質体薄膜と、該多孔質体薄膜の表面および細孔の表面を被覆した被覆金属とからなり、前記多孔質体薄膜の材料が酸素を除く成分としてシリコン、またはゲルマニウム、またはシリコンとゲルマニウムの混合物であることを特徴とする被分析物担体。
IPC (1)：
G01N 21/65
FI (1)：
G01N21/65
F-Term (8)：
2G043DA02 ,  2G043DA06 ,  2G043EA03 ,  2G043HA15 ,  2G043KA01 ,  2G043KA05 ,  2G043KA09 ,  2G043LA01
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1)
  • 分子センサおよびラマン分光分析法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-073181   Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所, ティーディーケイ株式会社, シャープ株式会社, 富永淳二, 桑原正史
Cited by examiner (4)
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Article cited by the Patent：
Cited by examiner (1)

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