Pat

J-GLOBAL ID：200903077757691688

パターン検査装置およびその方法

Inventor： 田中 麻紀 ,  久邇 朝宏 ,  嶋瀬 朗 ,  越柴 洋哉 ,  宍戸 千絵 ,  東 淳三 ,  品田 博之 ,  杉本 有俊 ,  宇佐見 康継 ,  村越 久弥
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 武 顕次郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998238812
Publication number (International publication number)：2000067797
Application date： Aug. 25, 1998
Publication date： Mar. 03, 2000
Summary：

【要約】【課題】 非検査物の表面を複数の検査領域に分割し、これらを複数の検出光学系を用いて同時に検査することで、検査の高速化を図ること。【解決手段】 複数の検出光学系により得られる画像の質を定量的に評価し、その結果を用いて、各々の検出光学系の検査感度が同程度となるように、検査時の画像処理パラメタを調整する。

Claim (excerpt)：

対象物上の複数の領域において、該対象物の表面の物理的性質を現した画像を検出する複数の検出光学系と、該各々の検出光学系により検出された画像信号を処理可能な画像処理部と、対象物を保持し移動可能なステージと、上記検出光学系により得られる画像の質を定量的に評価する像質評価手段と、該像質評価手段による像質評価結果にもとづいて、複数の上記検出光学系による検査感度が同程度となるように検査パラメータを決定する手段とを、有することを特徴とするパターン検査装置。

IPC (6)：

H01J 37/28 ,  G01N 21/88 ,  G01N 23/225 ,  G06T 7/00 ,  H01J 37/22 502 ,  H01L 21/66

FI (7)：

H01J 37/28 B ,  G01N 21/88 E ,  G01N 23/225 ,  H01J 37/22 502 H ,  H01L 21/66 J ,  H01L 21/66 Z ,  G06F 15/62 405 A

F-Term (66)：

2G001AA03 ,  2G001AA07 ,  2G001AA10 ,  2G001BA07 ,  2G001BA15 ,  2G001CA03 ,  2G001CA07 ,  2G001DA06 ,  2G001FA02 ,  2G001FA06 ,  2G001GA01 ,  2G001GA06 ,  2G001HA13 ,  2G001JA02 ,  2G001JA03 ,  2G001JA12 ,  2G001JA16 ,  2G001JA17 ,  2G001KA03 ,  2G001LA11 ,  2G001MA05 ,  2G001PA11 ,  2G051AA51 ,  2G051AA56 ,  2G051AA61 ,  2G051AB07 ,  2G051AB11 ,  2G051AC04 ,  2G051AC21 ,  2G051BA01 ,  2G051CA07 ,  2G051CB01 ,  2G051DA07 ,  2G051EA08 ,  2G051EA11 ,  2G051EA14 ,  2G051EA16 ,  2G051EA19 ,  2G051EA24 ,  2G051EB01 ,  2G051EB02 ,  2G051ED11 ,  2G051FA01 ,  4M106AA01 ,  4M106AA09 ,  4M106BA02 ,  4M106BA04 ,  4M106CA39 ,  4M106DB05 ,  4M106DB30 ,  4M106DJ04 ,  4M106DJ13 ,  4M106DJ14 ,  4M106DJ15 ,  4M106DJ19 ,  5B057AA03 ,  5B057BA01 ,  5B057BA15 ,  5B057BA19 ,  5B057DA03 ,  5B057DB02 ,  5B057DC02 ,  5B057DC30 ,  5C033FF03 ,  5C033JJ05 ,  5C033MM07

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 電子ビーム装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-251233   Applicant：富士通株式会社
• 特開昭62-105349
  
• 検査装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-310668   Applicant：積水化学工業株式会社

Cited by examiner (3)

• 電子ビーム装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-251233   Applicant：富士通株式会社
• 特開昭62-105349
  
• 検査装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-310668   Applicant：積水化学工業株式会社