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J-GLOBAL ID：200903077806663652
パターン形成材料と厚膜パターン形成方法およびプラズマディスプレイパネル
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
米田 潤三 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996079458
Publication number (International publication number)：1997245629
Application date： Mar. 07, 1996
Publication date： Sep. 19, 1997
Summary：
【要約】【課題】 レジストマスクとしての機能をもちながら湿式方式の剥離工程が不要なパターン形成材料と、このパターン形成材料を使用して電極や抵抗体等の高精度な厚膜パターンを形成することができる厚膜パターン形成方法、および、高精度の障壁を備えたプラズマディスプレイパネルを提供する。【解決手段】 600°C以下の焼成で揮発または分解する樹脂成分を、乾燥後の状態で5〜100重量%を占めるように含有させてパターン形成材料とし、このパターン形成材料を使用することにより、レジストマスクの焼成除去を可能とし、湿式方式による剥離工程を省略した厚膜パターン形成方法とする。
Claim (excerpt)：
少なくとも樹脂成分を含み、該樹脂成分はパターン形成材料が乾燥した状態で5〜100重量%を占めるように含有されるとともに、600°C以下の焼成で揮発または分解することを特徴とするパターン形成材料。
IPC (2)：
FI (2)：
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2)
Cited by examiner (2)
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