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J-GLOBAL ID：200903077891801902

微細パターン複製物の作製方法及び微細パターン複製物

Inventor： 藤平 正道 ,  秋葉 宇一 ,  奥井 博貴 ,  藤井 慎太郎 ,  栗原 正彰
Applicant, Patent owner： 藤平 正道 ,  大日本印刷株式会社
Agent (1)： 土井 育郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001093175
Publication number (International publication number)：2002283530
Application date： Mar. 28, 2001
Publication date： Oct. 03, 2002
Summary：

【要約】【課題】 コントラストのある分子レベルの微細な複製物を簡単に作製することができる微細パターンの複製方法及び複製物を提供する。【解決手段】 表面に凸状パターンを有する版に樹脂をコーティングし、その樹脂を前記版から剥離することにより前記樹脂からなる判子を作製し、疎水性単分子を分散させてなる分子インクを前記判子に付着させ、その分子インクの付着した判子を用いて基板上に疎水性分子の層からなる微細パターンを形成し、前記微細パターンの周囲の基板面に親水性分子を分散させてなる親水性分子溶液に浸漬することにより化学修飾を施す微細パターン複製物の作製方法において、前記親水性分子溶液として分子インク中の疎水性単分子の鎖長よりも短い鎖長を有する親水性単分子が分散された溶液を用いる。

Claim (excerpt)：

表面に凸状パターンを有する版に樹脂をコーティングし、その樹脂を前記版から剥離することにより前記樹脂からなる判子を作製し、疎水性分子を分散させてなる分子インクを前記判子に付着させ、その分子インクの付着した判子を用いて基板上に疎水性分子の層からなる微細パターンを形成し、前記微細パターンの周囲の基板面に親水性分子を分散させてなる親水性分子溶液に浸漬することにより化学修飾を施す微細パターン複製物の作製方法において、前記親水性分子溶液として分子インク中の疎水性分子の鎖長よりも短い鎖長を有する親水性分子が分散された溶液を用いることを特徴とする微細パターン複製物の作製方法。

IPC (2)：

B41C 3/06 ,  B81C 1/00

FI (2)：

B41C 3/06 ,  B81C 1/00

F-Term (2)：

2H084DD01 ,  2H084DD14

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 金属合金被覆ポリマーフィルムの接触印刷方法
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願平10-512889   Applicant：キンバリークラークワールドワイドインコーポレイテッド
• 有機薄膜の微細パターンの作製方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-282782   Applicant：シャープ株式会社, 工業技術院長
• 特開平1-243025
  
• 特開平1-243025
  

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• Journal of the American Chemical Society, 1995, Vol.117 No.37, p.9529-9534