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J-GLOBAL ID：200903077903780990

位相型回折素子およびそのグレーティングパターン製造方法

Inventor： 飯塚 隆之 ,  野口 正人 ,  佐藤 勉
Applicant, Patent owner： 旭光学工業株式会社
Agent (1)： 松岡 修平
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996198272
Publication number (International publication number)：1998026706
Application date： Jul. 09, 1996
Publication date： Jan. 27, 1998
Summary：

【要約】【課題】 従来の位相型回折素子は、平面上にグレーティングパターンを形成しているため、機械刻線法により金型を形成する場合、3次元の方向に対してバイトと金型とを相対的に駆動制御しなければならず、時間、コストがかかる。【解決手段】 位相型回折素子10は、同一の曲率と方向性とを持つ第1、第2のシリンドリカル面11、13を有し、第1のシリンドリカル面11には、それぞれ円周方向に沿って延びる複数の基準位相パターンが形成されており、これらの基準位相パターンが母線方向に沿って並列することによりグレーティングパターン12が形成されている。

Claim (excerpt)：

基板上に互いに平行な複数の帯状の基準パターンを形成してグレーティングパターンを構成し、該グレーティングパターンにより入射光を回折させて複数の光束に分割する位相型回折素子において、前記基板は、前記グレーティングパターンが形成される面がシリンドリカル面とされ、前記複数の基準パターンは、シリンドリカル面の円周方向に沿って形成されていることを特徴とする位相型回折素子。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 偶数多ビーム発生素子及び光記録装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-016368   Applicant：日立工機株式会社
• 特開昭57-049824