Pat

J-GLOBAL ID：200903077904516315

赤外光発生装置

Inventor： 内藤 紀幸 ,  和田 智之 ,  田代 英夫
Applicant, Patent owner： 理化学研究所 ,  内藤 紀幸
Agent (1)： 上島 淳一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001089541
Publication number (International publication number)：2002287190
Application date： Mar. 27, 2001
Publication date： Oct. 03, 2002
Summary：

【要約】【課題】高出力かつコンパクトで波長チューニング可能な赤外光発生装置を提供する。【解決手段】2種類の波長の異なる励起光を非線形光学結晶に入射して混合し、差周波発生により赤外光を発生する赤外光発生装置において、非線形光学結晶10へ入射する短波長側の第1の波長の励起光の光源として、Nd:YAGレーザ12を用い、非線形光学結晶10へ入射する長波長側の第2の波長の励起光の光源として、Cr:forsteriteレーザ14を用いる。

Claim (excerpt)：

2種類の波長の異なる励起光を非線形光学結晶に入射して混合し、差周波発生により赤外光を発生する赤外光発生装置において、非線形光学結晶へ入射する短波長側の第1の波長の励起光の光源として、Nd:YAGレーザを用い、前記非線形光学結晶へ入射する長波長側の第2の波長の励起光の光源として、Cr:forsteriteレーザを用いる赤外光発生装置。

IPC (2)：

G02F 1/37 ,  H01S 3/08

FI (2)：

G02F 1/37 ,  H01S 3/08

F-Term (10)：

2K002AB12 ,  2K002BA02 ,  2K002BA04 ,  2K002CA02 ,  5F072JJ20 ,  5F072KK01 ,  5F072KK12 ,  5F072QQ02 ,  5F072RR01 ,  5F072SS06

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭53-075795
  
• テラヘルツ波発生装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-037417   Applicant：浜松ホトニクス株式会社