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J-GLOBAL ID：200903078128198169

複合材料のポリシング加工方法

Inventor： 山口 幸男 ,  林 実
Applicant, Patent owner： 株式会社ノリタケカンパニーリミテド
Agent (1)： 池田 治幸 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996012716
Publication number (International publication number)：1997201761
Application date： Jan. 29, 1996
Publication date： Aug. 05, 1997
Summary：

【要約】【課題】 異種材料が組み合わされている被研磨材をポリシング加工する場合の加工段差を一層小さくでき、且つ、金属付着が生じ得ない研磨方法を提供する。【解決手段】 ビッカース硬度が2200MPa 程度のフッ素金雲母系セラミックスから成るセラミック板26の表面である研磨面14に砥粒42を供給すると共に、その研磨面14に複合材料から成る被研磨材である磁気ヘッド用部材30の一面40を摺接させることにより、その一面40がポリシング加工される。そのため、ポリシング加工をするに際して研磨面14に供給された砥粒42は、その研磨面14がHv=2200MPa 程度と比較的低硬度であることからその研磨面14に埋め込まれて切れ刃高さが揃った状態で保持される。

Claim (excerpt)：

平坦な研磨面を備えた研磨定盤の該研磨面に所定の砥粒を供給する砥粒供給工程と、2種以上の材料が一体化させられた複合材料から成る被研磨材の一面を、該砥粒が供給された該研磨面に摺接させることにより該一面を平滑に加工する摺接工程とを含む複合材料のポリシング加工方法であって、前記研磨面が、ビッカース硬度が1000〜4000MPa 程度のセラミックスから成ることを特徴とする複合材料のポリシング加工方法。

IPC (2)：

B24B 37/04 ,  B24D 3/00 320

FI (2)：

B24B 37/04 A ,  B24D 3/00 320 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 両面研磨装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-161640   Applicant：シチズン時計株式会社
• 特開昭54-062590
  
• 特開平4-069158