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J-GLOBAL ID:200903078330570410

レーザ光照射装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 横井 幸喜
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999073817
Publication number (International publication number):2000269161
Application date: Mar. 18, 1999
Publication date: Sep. 29, 2000
Summary:
【要約】【課題】 レーザ光照射装置において、被照射物で反射したレーザ光が装置を誤動作させるのを防止する。【解決手段】 被照射物7に対しレーザ光10を斜め方向から入射させる。斜め方向からの入射は、被照射物7を傾斜させたり、ミラー4、集光レンズ5の配置を変えたりすることにより行う。【効果】 被照射物への斜め方向からの入射により反射レーザ光が光路をそのまま逆行するのを防止でき、装置を誤動作させるレーザ光検出器への反射光の到達を阻止する。
Claim (excerpt):
被照射物にレーザ光を照射するレーザ光照射装置において、該被照射物を支持する支持台を備えており、該支持台は、被照射物の照射面がレーザ光束の中心線と直交する方向に対し角度差を有するように被照射物を支持することを特徴とするレーザ光照射装置
IPC (2):
H01L 21/268 ,  H01L 21/20
FI (3):
H01L 21/268 G ,  H01L 21/268 J ,  H01L 21/20
F-Term (3):
5F052AA02 ,  5F052BA12 ,  5F052BA18
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • 特開昭60-189216
  • レーザ照射装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平8-063390   Applicant:セイコー電子工業株式会社, 興和株式会社

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