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J-GLOBAL ID：200903078536878526
露光用原図基板
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
山川 政樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993148397
Publication number (International publication number)：1994337515
Application date： May. 28, 1993
Publication date： Dec. 06, 1994
Summary：
【要約】【目的】 ハーフトーンマスクやハーフトーンレチクルを用いたフォトリソグラフィの露光において、形成する素子自身のパターン領域以外の部分には余分な光が洩れないようにすることを目的とする。【構成】 露光領域1の境界より始まる遮光領域2の外側を照射範囲4より大きく形成する。
Claim (excerpt)：
露光光線を透過する透過性基板上に、前記露光光線をある程度透過するハーフトーン遮光体を用いてパタンを形成した露光用原図基板において、前記ハーフトーン遮光体によりパタンを形成した領域の周囲に、ほぼ完全な遮光体による遮光領域を設けたことを特徴とする露光用原図基板。
IPC (2)：
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