Pat
J-GLOBAL ID：200903078618622520
超短パルス増幅装置、超短パルス圧縮装置および超短パルス整形装置
Inventor：
,
,
,
Applicant, Patent owner：
,
Agent (1)：
大川 宏
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998114832
Publication number (International publication number)：1998333197
Application date： Apr. 24, 1998
Publication date： Dec. 18, 1998
Summary：
【要約】【課題】 超短パルス・システムに用いられている従来の分散遅延線と比較して、装置の小型化、設計の簡素化、低損失、高効率化、広いバンド幅、分散特性の制御性向上などを達成すること。【解決手段】 本発明の超短パルス増幅装置には、チャープ擬似位相同期(QPM)格子12が、超短パルスの伸張の分散遅延線として使われている。ビームの伝播方向に沿って変る周期を持ったQPM格子12は、同時に第二高調波を発生する。一般的には、この第二高調波の出力は振幅と位相とも変調されている。QPM格子12は、基本波波長の入力パルスの第二高調波の伸張をも行う。一般的に、周期性QPM格子12は、任意に整形された第二高調波パルスを効率良く発生できる。
Claim (excerpt)：
超短パルスを発生する超短パルス源と、該超短パルスを受けて伸張し、周波数変換し、それにより伸張されたパルスを発生するチャープされた擬似位相同期格子と、該伸張されたパルスを受けて増幅し、これにより増幅されたパルスを出力する光学的増幅器と、増幅されたパルスを受けて圧縮し、それにより圧縮されたパルスを発生する圧縮器と、を有することを特徴とする超短パルス増幅装置。
Patent cited by the Patent：
Article cited by the Patent：
Return to Previous Page
