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J-GLOBAL ID：200903078630223630

透明導電膜の製造方法

Inventor： 平井 博幸
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 飯田 敏三
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002211770
Publication number (International publication number)：2004055363
Application date： Jul. 19, 2002
Publication date： Feb. 19, 2004
Summary：

【課題】基板上に透明導電膜を形成する場合の高温での熱処理を不要とし、耐熱性の低いプラスチック基板にも形成でき、しかも簡易・迅速にオンデマンドのパターニングが可能な透明導電膜の製造方法を提供する。【解決手段】金属酸化物、金属水酸化物及び金属炭酸塩からなる群から選ばれる少なくとも一つの金属化合物から構成されるナノ粒子を含有するコロイド分散物を、インクジェット法により基板に吐出させ、焼成してなる透明導電膜の製造方法。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

金属酸化物、金属水酸化物及び金属炭酸塩からなる群から選ばれる少なくとも一つの金属化合物から構成されるナノ粒子を含有するコロイド分散物を、インクジェット法により基板に吐出させ、焼成することを特徴とする透明導電膜の製造方法。

IPC (3)：

H01B13/00 ,  H01B5/14 ,  H01L21/288

FI (4)：

H01B13/00 503B ,  H01B13/00 503D ,  H01B5/14 A ,  H01L21/288 M

F-Term (12)：

4M104AA09 ,  4M104BB36 ,  4M104DD51 ,  5G307FA02 ,  5G307FB01 ,  5G307FC03 ,  5G323BA02 ,  5G323BA05 ,  5G323BB06 ,  5G323BC03 ,  5G323CA04 ,  5G323CA05

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

• 透明導電回路形成装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-140476   Applicant：キヤノン株式会社
• 導電性金属酸化物に基づく層
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-043007   Applicant：アグフア-ゲヴエルト・ナームローゼ・フエンノートシヤツプ
• 透明導電膜の製造方法及び透明導電膜
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-194567   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• 酸化スズフィルム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-023599   Applicant：ニヤコルプロダクツ,インコーポレイテッド
• 透明導電膜の製造方法及びそれを用いた薄膜太陽電池
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-166973   Applicant：シャープ株式会社
• 電気回路、その製造方法および電気回路製造装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-078149   Applicant：セイコーエプソン株式会社